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92 材料工程/2012年7期 非对称双极脉冲反应磁控溅射 制备TiN/NbN多层膜 TiN/NbNMultilayersPreparedbyAsymmetrical BipolarpulsedReactiveMagnetronSputtering 黑立富,徐俊波,陈良贤,李成明,吕反修 (北京科技大学材料科学与工程学院,北京100083) — — — — — HEILifu,XUJunbo,CHENLiangxian,LIChengming,LUFanxiu (SchoolofMaterialsScienceandEngineering,University ofScienceandTechnologyBeijing,Beijing100083,China) 摘要:采用非对称双极脉冲磁控溅射制备了一系列不同调制周期的TiN/NbN纳米多层膜,利用x射线衍射分析 (XRD)、纳米压痕仪、扫描电子显微镜(SEM)表征了薄膜的微观结构、力学性能和断VI形貌。结果表明,在调制周期为 19.86nm时,纳米压痕硬度达到43GPa。利用三点弯曲法形成裂纹的扩展,并观察到了裂纹的偏转特征。 关键词:纳米多层膜;力学性能;调制周期 中图分类号:TB34 文献标识码:A — — 文章编号:10014381(2012)07009205 — Abstract:TiN/ZrNmultilayerswithdifferentmodulationperiodswerepreparedbyasymmetricalbi polarpulsedreactivemagnetronsputtering.Themicrostructure,mechanicalpropertiesandfracture characteristicsofmultilayerswereinvestigatedbyX-raydiffraction,scanningelectronmicroscopyand nonoindentation.Theresultsshowthatthenanohardnessreachesto43GPaatmodulationperiod — 19.86nm.ThefracturemorphologyofTiN/NbNmultilayerwasobservedbySEMafterthreepoint — bendingtest,whichrevealsthatthecracksinthemultilayerhaveatendencyofdeflectionattheinter facesandthusahighercrackingresistanceofthernultilayercanbeinduced. Keywords:nanomultilayers;mechanicalproperty;modulationperiod 自1987年HelmerssonE1等报道在TiN/VN纳 米多层膜中获得高达50GPa的硬度之后,与单组分薄 膜相比,由两种材料交替沉积形成的纳米多层膜因超 模量效应和超硬效应而得到广泛关注。目前,对氮化 物多层膜的研究主要集中在TiN,TaN,NbN,A1N, CrN等体系E253,TiN/NbN是同构超点阵纳米超硬 多层膜的典型。Barshilia等人的研究表明lI6]:TiN/ NbN的纳米压入硬度会随着多层膜的调制周期而变 化。当其调制周期为4.8nm时出现峰值硬度40GPa, 而单层TiN与NbN的硬度分别是22GPa和18GPa。 X.T.Zeng等人同样研究了调制周期与TiN/NbN多 层膜硬度的变化规律E。他们的结论是:当调制周期 在7.5--8.5nm范围时,多层膜获得最佳的力学性能 表现,其硬度与结合力测试的临界载荷分别为40GPa 和42~50N。值得注意的是,X.T.Zeng的研究结合 了调制比对多层膜硬度的影响,调制比会很大程度上 影响多层膜的硬度以及硬度与结合力之间的协调关 系。另外,Barshilia和X.T.Zeng对TiN/NbN纳米 多层膜的研究都是利用反应磁控溅射的方法制备样品 的。本工作采用非对称双极脉冲磁控溅射制备了一系 列不同调制周期的TiN/NhN纳米多层膜,研究了多 层膜的结构和力学性能。 1实验材料和方法 1.1TiN/NbN纳米多层膜的制备 TiN/NbN纳米多层膜的制备是在TSU一600多功 能镀膜机上采用40kHz非对称双极脉冲磁控反应溅 射方法进行的。试验的基片为高速钢。试验采用金属 Ti靶和Nb靶(纯度均为99.99)作为溅射源,靶直 径 ̄50mm,厚4mm。在沉积之前,先在高速钢抛光处 理后,分别用丙酮、无水乙醇、蒸馏水等溶液配合超声 波对高速钢进行预清洗。真空室的本底真空为7.0× 10Pa。首先制备了TiN和NbN单层膜,以确定合 适的沉积工艺。多层薄膜制备在Ar(99.99)和N。 (99.99)的混合气氛中进行,工作气压为0.3Pa。基 96 材料工程/2012年7期 不论这条裂纹的形成是源自多层膜的弯曲还是多 层膜的断裂,它的走势是弯折而存在偏转特征的。 TiN与NbN属于过渡族金属氮化物,都属于脆性物 质,尤其是脆性相NbN。TiN与NbN单层膜的裂纹 扩展是平直并终止于基底的[】。而TiN/NbN多层 膜却表现出与TiN与NbN单层膜截然不同的特征, 这正是多层化结构中存在大量界面所产生的贡献。当 裂纹扩展到界面处时,需要经历弹性性能与膜层结构 的改变,这一过程增加了裂纹偏转或分支的几率,而裂 纹的偏转能够缓解裂纹尖端的应力集中,并导致整个 薄膜的韧化。另外,界面会促进两侧调制层的再结晶 作用,细化晶粒降低缺陷密度,提高薄膜的内在韧性。 实际上,如果裂纹在多层膜中的扩张能够导致膜 层的分离,这一过程所吸收的应变能会远高于裂纹偏 转或分叉所吸收的应变能[1。在图5中没有观察到 明显的膜层分离现象,可能是由于裂纹的扩张并不是 垂直于膜层方向,或是由于调制层的厚度偏大。但裂 纹偏转也会产生更大区域的新表面,这个过程吸收的 应变能同样不可忽视。另外,从图5中还可以观察到, 裂纹在自上而下的扩展过程中,其间隙并不是逐渐缩 小的,这可能与裂纹尖端在界面处的钝化有关。 3结论 (1)TiN/NbN纳米多层膜体系中,调制周期影响 着薄膜的生长取向,在调制周期比较小的时候,TiN/ NbN纳米多层膜和单层膜生长取向差不多,(111)生 长最快,随着调制周期的增加,TiN/NbN纳米多层膜 的(200)生长逐渐加快,(111)生长减慢。 (2)TiN/NbN纳米多层膜的硬度和弹性模量在 调制周期较小时低于单一TiN和ZrN的硬度和弹性 模量,随着调制周期的增加,有先增加后减少的趋势, 在调制周期为19.86nm时,硬度和弹性模量达到一个 较高值,达到了43GPa和550GPa。 (3)利用三点弯曲法,观察到了裂纹的偏转特征。 [1] [2] [3] 参考文献 HELMERSS0NU,T0DOR0VAS,BARNETTSA,eta1. 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