表面制备SiO2涂层的Ti2AlNb基合金高温氧化激活能研究.pdf

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 8   材料工程/2013年7期 试样的动力学曲线斜率增大。 g  0∞   暑一 \  暑∞   器 g 0∽    Time|h   ℃ ℃    图3800和900时氧化增重的平方与时间关系图          Fig.3Correspondingcurvesofsquareofmassgain       ℃ andoxidationtimeat800and900   ℃ ℃      钛合金在800和900下氧化后,氧化膜的物相              组成主要为TiO,TiO被认为是n一型半导体,   TiO的生长受氧空位向外扩散控制。这种扩散将导   致氧化膜的开裂,裂纹促使合金基体的氧化加深,长时            间氧化后氧化膜变得疏松,出现孔洞,甚至剥落。涂层 样品与空白样品的差别在于涂层通过限制气相中氧的  扩散来降低氧化膜表面的可用氧。氧穿透涂层,也可 能通过固态扩散和沿微孔、裂纹或物理断裂进行传输。            而SiO涂层可以两种方式避免上述情况产生,抑制氧                    化膜的生长:SiO颗粒对氧化膜裂纹的物理堵塞;        SiO在氧化层中溶解使siO对TiO掺杂,这有助于     氧化层的致密化,从而抑制氧的内扩散和Ti的外扩   散。 — 为进一步明确Ti一22A126Nb合金和其带有涂层  的样品在相应温度下的氧化动力学特征,将氧化增重   和时间的关系按照高温氧化抛物线规律表达为:    lz一kt (1)    其中z为氧化增重,k为抛物线速率常数,t是氧             化时问。z和t构成抛物线函数关系,则z和t构成   线性函数关系,其斜率是为抛物线速率常数。     应用Origin8.0软件自带的曲线拟合功能对图3   中的各条曲线进行拟合,拟合方程的形式为Y一A+   BX,Y代表单位面积氧化增重,x代表氧化时间,则B   为抛物线速率常数,拟合结果列于表1。                  分析拟合结果可知,两个温度下都是涂层样品     ℃  的平均氧化速率常数明显低于空白样品,800时,        空白样品的平均氧化速率常数(O.17582mg2・cm・              h)是涂层样品(0.0303rag・cm・h)的5.8倍, ℃                在900时空白样品的平均氧化速率常数也是涂层     样品的2.4倍。这一结果说明SiO。涂层的存在降低  了合金的高温氧化速率。      ℃  表1空白样品和涂层样品在800和900 ̄C下 氧化增重与时间的拟合关系          Table1Fittingrelationbetweenmassgainandoxidation       timeofsampleat800 ̄Cand900 ̄C   80o ̄ccoatedsample   800 ̄Cblanksample    900 ̄Ccoatedsample   900 ̄Cblanksample       Y=一0.32405+0.0303X      y2一一1.37793+o.17582X      yz一一1.70953+0.25941X     yz一一2.93218+o.6215X         图4空白样品和涂层样品9oo*(2循环氧化的值变化           Fig.4Actualrateconstantskasa{unctionofoxidationtime      {orblanksampleandcoatedsample ℃           根据式(1),900下循环氧化实验中涂层样品和           空白样品的k值随时间的变化趋势如图4所示。由图              4可见,空白样品的氧化速率常数波动较大,但一个基           本的规律是:循环数增加一氧化速率下降    氧化皮剥    落一氧化速率上升。在80个循环周期内,空白样品的        氧化速率常数最小值为0.1794mgC1TI・h_。,而涂           层样品的最大值为0.0252mg・C1TI・h_。,可见空白    样品的氧化速率始终是涂层样品的7倍以上。更重要               的结果是,图4反映了空白样品氧化膜生长一剥落的          规律,说明在循环氧化过程中,空白样品的氧化膜由于            黏附力差等问题,只能短时间起到防护作用(氧化速率  下降),然后便因剥落而导致氧化速率上升。而涂层样    品氧化速率比较稳定,氧化速率上升出现在30~50h,            随后又保持一个相对恒定的速率。由此可见,SiO:涂 层提高了合金的抗循环氧化性能。       2.3氧化膜的物相分析和形貌    ℃     图5为XRD分析样品在900恒温氧化80h后,            氧化膜的物相组成。所有样品氧化后都出现了金红石     型TiO2,AlNbO4,A12O3和Nb2TiO7。其中TiO2衍         射峰最强,而AlNbO和Nb。TiO衍射峰较弱,尤其          是涂层样品。涂层样品中TiO。,AlNbO和NbTiO              三个氧化物衍射峰的相对强度弱于空白样品,但        AlO。衍射峰强度比空白样品要高。富铌氧化物如             AlNbO和NbTiO在氧化膜中是非保护性的,它们 10   材料工程/2013年7期     的关系式,见表2。      表2空白样品和涂层样品在800, 900 ̄C下氧化速率常数与温度的关系         Table2RelationbetweenkTandoxidationtemperature      ofsamplesat800 ̄Cand900 ̄C — 由计算结果可知,Ti一22A126Nb合金的氧化激活       能为132.43kJ・mol~,而Si()2涂层样品为224.65M・                mol-。,计算的涂层样品氧化激活能比裸合金提高了                7O。涂层的存在使合金的氧化激活能增大,提高了       合金在高温下的抗氧化性能。   3结论              (1)溶胶一凝胶法制备的SiO涂层降低了     TiA1Nb基合金800 ̄C和900 ̄C下恒温氧化和循环氧    化速率常数。            (2)在800,900 ̄C下,相对于空白试样而言,带有            SiO涂层的TiA1Nb基合金氧化激活能升高,抗高温   氧化性能好。            (3)通过对TiA1Nb合金及其SiOz涂层样品氧   化激活能的估算,可以预测二者在高温环境中的抗氧   化能力。 参考文献         [1]赵明磊,王春雷,钟维烈,等.溶胶一凝胶法制备Bi05Na05TiO3陶 — 瓷及其电学特性[J].物理学报,2003,52(1):229232.              — ZHA0ML.WANGCL,ZHONGWI,eta1.Electricalprop       —  ertiesof(Bi。5Nao5)TiOaceramicpreparedbysolgelmethod  — [J].ActaPhysicaSinica,2003,52(1):229232.      ——  [2]王焕平,张启龙,杨辉.溶胶一凝胶法制备CaOMgOSiO2纳米粉        — 体的原位控制[J].稀有金属材料与工程,2008,37(2):430 433.          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awang118
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