不同Ti含量的W—Ti—N复合膜的微结构及性能研究.pdf

２０１４年ｌ２月第１２期第２３～２７页材料工程ＪｏｕｒｎａｌｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇＤｅｃｅｍｂｅｒ２Ｏ１４—Ｎｏ．１２ＰＰ．２３２７——不同Ｔｉ含量的ＷＴｉＮ复合膜的微结构及性能研究————ＳｔｕｄｙｏｎＭｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅａｎｄＰｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆＷＴｉＮＣｏｍｐｏｓｉｔｅＦｉｌｍｓｗｉｔｈＤｉｆｆｅｒｅｎｔＴｉｔａｎｉｕｍＣｏｎｔｅｎｔ赵淑芳，喻利花，马冰洋，许俊华（江苏科技大学先进焊接技术江苏省重点实验室，江苏镇江２１２００３）————ＺＨＡＯＳｈｕｆａｎｇ，ＹＵＬｉｈｕａ，ＭＡＢｉｎｇｙａｎｇ，ＸＵＪｕｎｈｕａ（ＪｉａｎｇｓｕＫｅｙＬａｂｏｒａｔｏｒｙｏｆＡｄｖａｎｃｅｄＷｅｌｄｉｎｇＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，ＪｉａｎｇｓｕＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｚｈｅｎｊｉａｎｇ２１２００３，Ｊｉａｎｇｓｕ，Ｃｈｉｎａ）—摘要：采用多靶反应磁控溅射技术制备一系列不同Ｔｉ含量的Ｗ＿ＴｉＮ复合膜。采用ｘ射线衍射仪、扫描电镜、纳米压痕仪等检测方法对薄膜的微结构和力学性能进行表征。采用ＵＭＴ－２功能摩擦试验机，在室温、大气环境、无润滑的条件——下对ｗＴｉＮ复合膜的摩擦性能进行评价，同时，探讨薄膜的致硬机理和摩擦机制。结果表明：Ｔｉ含量（原子分数，下同）为５～２３．４８时，薄膜硬度处于峰值区，硬度值最高可达３９ＧＰａ，摩擦因数在０．４左右。当Ｔｉ含量高于２３．４８时，硬度随着Ｔｉ含量增加而下降，摩擦因数随Ｔｉ含量的增加而升高。——关键词：磁控溅射；ＷＴｉＮ复合膜；微结构；力学性能；摩擦性能—ｄｏｉ：１０．１１８６８／ｊ．ｉｓｓｎ．１００１４３８１．２０１４．１２．００４中图分类号：ＴＧ１７４．４４文献标识码：Ａ——文章编号：１００１４３８１（２０１４）１２－００２３０５———Ａｂｓｔｒａｃｔ：ＷＴｉＮｃｏｍｐｏｓｉｔｅｆｉｌｍｓｗｉｔｈｄｉｆｆｅｒｅｎｔｔｉｔａｎｉｕｍｃｏｎｔｅｎｔｗｅｒｅｆａｂｒｉｃａｔｅｄｂｙｒｅａｃｔｉｖｅｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇｔｅｃｈｎｉｑｕｅ．ＴｈｅｍｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅａｎｄｍｅｃｈａｎｉｃａｌｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆｆｉｌｍｓｗｅｒｅｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚｅｄｂｙＸＲＤ，ＳＥＭａｎｄＣＳＭ．ＴｒｉｂｏｌｏｇｉｃａｌｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅｏｆｔｈｅｆｉｌｍｓｗａｓｔｅｓｔｅｄｏｎＵＭＴ一２ｍｕｌｔｉｆｕｎｃｔｉｏｎａｌｔｒｉｂｏｍｅｔｅｒｉｎｔｈｅｃｏｎｄｉｔｉｏｎｏｆｒｏｏｍｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ，ａｔｍｏｓｐｈｅｒｅｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｎｄｗｉｔｈｏｕｔ１ｕｂｒｉｃａｔｉｏｎ．Ａｔｔｈｅｓａｍｅｔｉｍｅ，ｔｈｅｍｅｃｈａｎｉｓｍｓｏｆｈａｒｄｎｅｓｓｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔａｎｄｆｒｉｃｔｉｏｎｗｅｒｅａｌｓｏｄｉｓｃｕｓｓｅｄ．Ｔｈｅｒｅｓｕｌｔｓｓｈｏｗｔｈａｔ，ａｔｔｉｔａｎｉｕｍｃｏｎｔｅｎｔ（ａｔｏｍｆｒａｃｔｉｏｎ）ｏｆ５一２３．４８，ｔｈｅｈａｒｄｎｅｓｓｏｆｔｈｅｆｉｌｍｉＳｉｎｔｈｅｐｅａｋ—ａｒｅａ，ａｎｄｔｈｅｍａｘｉｍｕｍｓｈａｒｄｎｅｓｓｉＳｕｐｔｏ３９ＧＰａ，ｆｒｉｃｔｉｏｎｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔｉＳａｂｏｕｔ０．４．ＷｈｅｎｔｈｅＴｉｃｏｎ—ｔｅｎｔｉｓｈｉｇｈｅｒｔｈａｎ２３．４８，ｔｈｅｈａｒｄｎｅｓｓｄｅｃｒｅａｓｅｓｗｉｔｈｉｎｃｒｅａｓｉｎｇｏｆｔｈｅｔｉｔａｎｉｕｍｃｏｎｔｅｎｔ．Ｉｎａｄｄｉｔｉｏｎ，ｔｈｅｆｒｉｃｔｉｏｎｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔｉｎｃｒｅａｓｅｓ．——Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：ｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ；ＷＴｉ～Ｎｃｏｍｐｏｓｉｔｅｆｉｌｍ；ｍｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅ；ｍｅｃｈａｎｉｃａｌｐｒｏｐｅｒｔｙ；ｔｒｉｂｏｌｏｇｉｃａｌｐｒｏｐｅｒｔｙ各种过渡族金属氮化物，如ＴｉＮ，ＺｒＮ和ＷＮ等由于其具有良好的性能，而被广泛用作工模具的保护涂层、材料的装饰涂层、微电子领域的扩散阻挡层以及生物领域等［１］。以ＴｉＮ，ＣｒＮ为代表的传统金属氮化物薄膜常被用作表面强化材料、工具的保护涂层以提高基体材料的表面性能［４］。其中，ＴｉＮ涂层技术比较成熟，被广泛应用在高速钢刀具与模具上。然而，℃由于５００以上急剧下降的抗氧化性能使其应用范围—受到限制ｌ＝７。近年来的研究表明［１１１３３，在ＴｉＮ系列中添加ｗ，Ａｌ，ｓｉ等元素可以进一步有效地改善力学性能。Ｗ－Ｎ属于一种难熔金属氮化物，具有高硬度、高—熔点、优良的化学稳定性等特性，基于这些特性ＷＮ薄膜已被研究用作大规模集成电路的扩散阻挡层、高——耐磨材料、光学材料及电极等＿ｌ。ｗＮ和ｗＣ都具有特殊的性能。它最初被应用于扩散阻挡层和半导体—等电子领域。２０世纪９ｏ年代后ｗＮ涂层开始了机械领域的应用研究［１。近年来的研究表明［１，将———Ｔｉ加入到ｗＮ中形成的ｗＴｉＮ薄膜具有较高的硬度和耐腐蚀性能，可以进一步改善其力学性能，从而延长切削刀具和电路电极的使用寿命。研究表明［１，ｗ／Ｔｉ化学比例对其结构、抗氧化性、形貌以及力学性能等具有重要影响。然而这些研究大部分是使用复合——靶或镶嵌靶，制备的ｗＴｉＮ薄膜化学成分和靶材相第１２期——不同Ｔｉ含量的ｗＴｉＮ复合膜的微结构及性能研究２７—ＣｏａｔＴｅｃｈ，１９９９，ｌ１６１１９：ｌ３３１４Ｏ．—Ｅ６］ｗＵＤ，ＺＨＡＮＧｚ，ＦｕＷ，ｅｔａ１．Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ，ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌａｎｄｃｈｅｍｉｃａｌｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆｚｉｒｃｏｎｉｕｍｎｉｔｒｉｄｅｆｉｌｍｓｄｅｐｏｓｉｔｅｄｂｙｄｅｒｅａｃｔｉｖｅ—ｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ［Ｊ］．ＡｐｐｌＰｈｙｓＡ，１９９７，６４（６）：５９３５９５．Ｅ７］ＳＵＥＪＡ，ＣＨＡＮＧＴＰ．Ｆｒｉｃｔｉｏｎａｎｄｗｅａｒｂｅｈａｖｉｏｒｏｆｔｉｔａｎｉｕｍ—ｎｉｔｒｉｄｅ，ｚｉｒｃｏｎｉｕｍｎｉｔｒｉｄｅａｎｄｃｈｒｏｍｉｕｍｎｉｔｒｉｄｅｃｏａｔｉｎｇｓａｔｅｌｅｖａｔ——ｅｄｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ［Ｊ］．ＳｕｒｆＣｏａｔＴｅｃｈ，１９９５。７６７７：６１６９．—［８］ＳＡＫＡＭＯＴＯＩ，ＭＡＲＵＮＯＳ，ＪＩＮＰ．Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎａｎｄｍｉｃｒｏ—ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｏｆｒｅａｃｔｉｖｅｌｙｓｐｕｔｔｅｒｅｄＴｉｌｘＺｒｘＮｆｉｌｍ［Ｊ］．ＴｈｉｎＳｏｌｉｄ—Ｆｉｌｍｓ，１９９３，２２８：１６９１７９．—ｒ９］ＭＥＩＦＨ，ＤＯＮＧＹＳ，ＬＩＹＲ，ｅｔａ１．Ｍｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅａｎｄｍｅｃｈａｎｉｃａｌｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆ（Ｔｉ，Ａ１）（Ｏ，Ｎ）ｆｉｌｍｓｓｙｎｔｈｅｓｉｚｅｄｂｙｒｅａｃｔｉｖｅｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ［Ｊ］．ＭａｔｅｒｉａｌｓＬｅｔｔｅｒｓ，２００６，６Ｏ：３７５３７８．—［１Ｏ３ＪＩＡＮＧＮ，ＳＨＥＮＹＧ，ＺＨＡＮＧＨＴ，ｅｔａ１．Ｓｕｐｅｒｈａｒｄｎａｎｏ————ｃｏｍｐｏｓｉｔｅＴｉＡ１－Ｓｉ。Ｎｆｉｌｍｓｄｅｐｏｓｉｔｅｄｂｙｒｅａｃｔｉｖｅｕｎｂａｌａｎｃｅｄｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ［Ｊ］．ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇＢ，—２００６，１３５（１）：１９．—［１１］ＭＡＴＴＨＥＳＢ，ＢＲＯＳＺＥＩＴＥ，ＫＩＯＯＳＫＨ．Ｔｒｉｂｏｌｏｇｉｃａｌｂｅ——ｈａｖｉｏｒａｎｄｃｏｒｒｏｓｉｏｎｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅｏｆＴｉ－Ｂ－Ｎｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇｓｕｎｄｅｒ—ｐｌａｓｔｉｃｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇｃｏｎｄｉｔｉｏｎｓ［Ｊ］．ＳｕｒｆａｃｅａｎｄＣｏａｔｉｎｇｓＴｅｃｈ——ｎｏｌｏｇｙ，１９９３，５７（２３）：９７１０４．——［１２］农尚斌，喻利花，许俊华．ＴｉｓｉＮ复合膜的微结构及性能研究—［Ｊ］．表面技术，２００８，３７（２）：４５４９．———Ｎ０ＮＧＳｈａｎｇｂｉｎ。ＹＵＬｉｈｕａ．ＸＵＪｕｎｈｕａ．Ｍｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅａｎｄ—‘———ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆＴｉＳｉＮｎａｎｏ。ｃｏｍｐｏｓｉｔｅｓｄｅｐｏｓｉｔｅｄｂｙｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ［Ｊ］．ＳｕｒｆａｃｅＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，２００８，３７（２）：４５４９．［１３］董松涛，喻利花，董师润，等．磁控共溅射制备锆一硅一氮复合薄膜—的显微组织与性ｆｌ￣ＥＪ］．机械工程材料，２００８，３２（９）：５４５８．————Ｄ０ＮＧＳｏｎｇｔａｏ，ＹＵＬｉｈｕａ，ＤＯＮＧＳｈｉｒｕｎ，ｅｔａ１．Ｍｉｃｒｏ—ｓｔｒｕｃｔｕｒｅａｎｄｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆＺｒ－ＳｉＮｃｏｍｐｏｓｉｔｅｆｉｌｍｓｐｒｅｐａｒｅｄｂｙ—ｒｅａｃｔｉｖｅｍａｇｎｅｔｒｏｎｃｏｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ［Ｊ］．ＭａｔｅｒｉａｌｓｆｏｒＭｅｃｈａｎｉｃａｌ—Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，２００８，３２（９）：５４５８．—［１４］ＹｕＢＨ，ＷＡＮＧＣＬ，ＳＯＮＧＸＹ．Ｓｔｒｕｃｔｕｒａｌｓｔａｂｉｌｉｔｙａｎｄｍｅ—ｃｈａｎｉｃａｌｐｒｏｐｅｒｔｙｏｆＷＮｆｒｏｍｆｉｒｓｔｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓｃａｌｃｕｌａｔｉｏｎｓ［Ｊ］．Ｊ——ＡｌｌｏｙＣｏｍｐｄ，２００９，４８７（１２）：５５６５５９．ｒ１５］０ＳＰＩＮＡＲ，ＣＡＳＴＩＬＬＯＨＡ，ＢＥＮＡＶＩＤＥＳＶ，ｅｔａ１．Ｉｎｆｌｕｅｎｃｅ—ｏｆｔｈｅａｎｎｅａｌｉｎｇｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｏｎａｃｒｙｓｔａｌｐｈａｓｅｏｆＷ／ＷＣｂｉｌａｙｅｒｓｇｒｏｗｎｂｙｐｕｌｓｅｄａｒｃｄｉｓｃｈａｒｇｅ［Ｊ］．Ｖａｃｕｕｍ，２００６，８１（３）：３７３—３７７．ｒ１６］ＵＥＫＵＢＯＭ，ＯＫＵＴ，ＮＩＩＫ，ｅｔａ１．ＷＮｄｉｆｆｕｓｉｏｎｂａｒｒｉｅｒｓｂｅ—ｔｗｅｅｎＳｉａｎｄＣｕＥ１］．ＴｈｉｎＳｏｌｉｄＦｉｌｍｓ，１９９６，２８６（１２）：１７０一Ｉ７５．［１７］王明霞，肖楠，李德军．薄膜的合成及其结构和性能的研究［Ｊ］．—功能材料，２００８，３９（增刊）：３９１３９３．—ＷＡＮＧＭｉｎｇｘｉａ，ＸＩＡ０Ｎａｎ，ＬＩＤｅ－ｊｕｎ．Ａｓｔｕｄｙｏｆｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，—ｓｔｒｕｃｔｕｒｅａｎｄｐｒｏｐｅｒｔｙｏｆＷＴｉＮｃｏａｔｉｎｇｓ［Ｊ］．ＪｏｕｒｎａｌｏｆＦｕｎｃ—ｔｉｏｎａｌＭａｔｅｒｉａｌｓ，２００８，３９（Ｓｕｐｐ１）：３９１３９３．ｒ１８］ＲＡＭＡＲＯＴＡＦＩＫＡＨ，ＬＥＭＥＲＩＥＲＥＧ．Ｉｎｆｌｕｅｎｃｅｏｆａｄ．ｃ．ｓｕｂｓｔｒａｔｅｂｉａｓｏｎｔｈｅｒｅｓｉｓｔｉｖｉｔｙ，ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ，ｅｒｙｓｔａｌｌｉｔｅｓｓｉｚｅ［１９］［２０３［２１］［２２］［２３］［２４］［２５３［２６］［２７］ａｎｄｍｉｃｒｏｓｔｒａｉｎｏｆＷＴｉａｎｄｗＴｉＮｆｉｌｍｓ［Ｊ］．ＴｈｉｎＳｏｌｉｄＦｉｌｍｓ，—１９９５，２６６（２）：２６７２７３．ＣＡＶＡＬＥＩＲｏＡ，ＴＲＩＮＤＡＤＥＢ，ＶｌＥＩＲＡＭＴ．ＩｎｆｌｕｅｎｃｅｏｆＴｉ——ａｄｄｉｔｉｏｎｏｎｔｈｅｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆＷＴｉＣ／Ｎｓｐｕｔｔｅｒｅｄｆｌｌｍｓ［Ｊ］．Ｓｕｒ——ｆａｃｅａｎｄＣｏａｔｉｎｇｓ，２００３，１７４１７５：６８７５．——喻利花，薛安俊，董松涛，等．ｓｉ含量对ＴｉＡ１一ｓｉＮ薄膜微结构与—力学性能的影响［Ｊ］．材料热处理学报，２０１０，３１（７）：１４０１４５．———ＹＵＬｉｈｕａ，ＸＵＥＡｎｊｕｎ，ＤＯＮＧＳｏｎｇｔａｏ，ｅｔａ１．Ｉｎｆｌｕｅｎｃｅｏｆ—‘——ＳｉｃｏｎｔｅｎｔｏｎｍｉｅｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅａｎｄｍｅｃｈａｎｉｃａｌｐｒｏｐｅｒｔｙｏｆＴｉＡ１—ｓｉＮｆｉｌｍｓ［Ｊ］．ＴｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓａｎｄＨｅａｔＴｒｅａｔｍｅｎｔ，２Ｏ１０，３１（７）：１４Ｏ一１４５．汪蕾，董师润，尤建飞，等．Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）复合膜和ＴｉＮ／Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）多层膜组织和显微硬度［Ｊ］．材料热处理学报，２ｏ１０，３１（２）：１１３一ｌｌ８．———ＷＡＮＧＬｅｉ，ＤＯＮＧＳｈｉｒｕｎ，Ｙ０ＵＪｉａｎｆｅｉ，ｅｔａ１．Ｍｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅａｎｄｍｉｃｒ０ｈａｒｄｎｅｓｓｏｆＴｉ（Ｃ，Ｎ）ａｎｄＴｉＮ／Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）ｍｕｈｉｌａｙｅｒｆｉｌｍｓ［Ｊ］．ＴｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓａｎｄＨｅａｔＴｒｅａｔｍｅｎｔ，—２Ｏ１０，３１（２）：１１３１１８．—ＢＵＩＩＳＪ，ＢＨＡＴＤＧ，ＳＴＡＩＡＭＨ．Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓａｎｄｐｅｒｆｏｒｍ—ａｎｃｅｏｆｃｏｍｍｅｒｃｉａｌＴｉＣＮｃｏａｔｉｎｇｓ．ｐａｒｔ２：ｔｒｉｂｏｌｏｇｉｃａｌｐｅｒｆｏｒｍ—ａｎｃｅ［Ｊ］．ＳｕｒｆａｃｅａｎｄＣｏａｔｉｎｇｓＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，２００３，１６３１６４：５０７—５１４．Ｌ０ＵＲ０Ｃ，ＣＡＶＡＩＥＩＲ０Ａ．Ｈａｒｄｎｅｓｓｖｅｒｓｕｓｓｔｒｕｃｔｕｒｅｉｎ——ｗｓｉＮｓｐｕｔｔｅｒｅｄｃｏａｔｉｎｇｓ［Ｊ］．ＳｕｒｆＣｏａｔＴｅｃｈｎｏｌ，１９９９，１１６一—ｌ１９（１）：７４８０．徐哲，席慧智，阮霞，等．磁控溅射ＴｉＮ薄膜工艺参数对显微硬度—的影响［Ｊ］．应用科技，２００７，３４（５）：１３．——ＸＵＺｈｅ，ＸＩＨｕｉｚｈｉ，ＲＵＡＮＸｉａ，ｅｔａ１．Ｔｈｅｉｎｆｌｕｅｎｃｅｏｆｍａｇ—ｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇＴｉＮｆｉｌｍｓｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇｐａｒａｍｅｔｅｒｓｏｎｍｉｃｒｏｈａｒｄ—ｎｅｓｓ［Ｊ］．ＡｐｐｌｉｅｄＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，２００７，３４（５）：１３．—ＰＯＩＣＡＲＴ．ＰＡＲＲＥＩＲＡＮＭＧ．ＣＡＶＡＬＥＩＲ０Ａ．Ｔｒｉｂｏｌｏｇｉ—ｃａｌｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎｏｆｔｕｎｇｓｔｅｎｎｉｔｒｉｄｅｃｏａｔｉｎｇｓｄｅｐｏｓｉｔｅｄｂｙｒｅ—ａｃｔｉｖｅｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ［Ｊ］．ｗｅａｒ，２００７，２６２（５６）：６５５６６５．—ＭＥＮＧＪｕｎｈｕ，ＬＵＪｉｎｊｕｎ，ＷＡＮＧＪｉｎｇｂｏ，ｅｔａ１．Ｔｒｉｂｏｌｏｇｉｃａｌ—ｂｅｈａｖｉｏｒｏｆＴｉＣＮｂａｓｅｄｃｅｒｍｅｔｓａｔｅｌｅｖａｔｅｄｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｓ［Ｊ］．——ＭａｔｅｒｉａｌｓＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，２００６，４１８（１２）：６８７６．—ＳＩＬＶＡＰＮ，ＤＩＡＳＪＰ，ＣＡＶＡＩＥＩＲＯＡ．Ｔｒｉｂｏｌｏｇｉｃａｌｂｅｈａｖ——ｉｏｕｒｏｆＷＴｉＮｓｐｕｔｔｅｒｅｄｔｈｉｎｆｉｌｍｓ［Ｊ］．Ｓｕｒｆａｃｅ＆Ｃｏａｔｉｎｇｓ—Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，２００５，２００（１４）：１８６１９１．基金项目：国家自然科学基金资助项目（５１０７４０８０）；江苏省自然科学基金资助项目（ＢＫ２００８２４０）————收稿日期：２０１２０８１４；修订日期：２０１４０４２９通讯作者：许俊华（１９６２一），男，教授，研究方向：主要从事纳米科学与技术、薄膜材料物理和化学以及薄膜磁性材料等领域的研究工作，联系地址：江苏省镇江市京口区梦溪路２号江苏科技大学材料学院（２１２００３），Ｅ－ｍａｉｌ：ｊｈｘｕ＠ｊｕｓｔ．ｅｄｕ．ｃｎ