氮化硼二维纳米材料剥离制备技术研究进展.pdf

第４４卷第３期—２０１６年３月第１２２１２８页材料工ＪｏｕｒｎａｌｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓ程ＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇＶｏ１．４４Ｎｏ．３—Ｍａｒ．２０１６ＰＰ．１２２１２８氮化硼二维纳米材料剥离制备技术研究进展—ＲｅｓｅａｒｃｈＰｒｏｇｒｅｓｓｉｎＢｏｒｏｎＮｉｔｒｉｄｅＴｗｏｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌＮａｎｏｍａｔｅｒｉａｌｓＳｔｒｉｐｐｉｎｇＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ刘闯，张力，李平，陈永安，崔雯雯。，张海林３（１北京有色金属研究总院稀有金属冶金材料研究所，北京１０００８８；２中国科学院过程工程研究所湿法冶金清洁生产技术国家工程实验室，北京１００１９０；３中国科学院过程工程研究所绿色过程与工程重点实验室，北京１００１９０）’—’ＬＩＵＣｈｕａｎｇ。，ＺＨＡＮＧＬｉ，ＬＩＰｉｎｇ，ＣＨＥＮＹｏｎｇａｎ。，——ＣＵＩＷｅｎｗｅｎ，ｕ．ＺＨＡＮＧＨａｉｌｉｎ，。（１ＤｉｖｉｓｉｏｎｏｆＲａｒｅＭｅｔａ１Ｍａｔｅｒｉａｌｓ＆Ｍｅｔａｌｌｕｒｇｙ，ＧｅｎｅｒａｌＲｅｓｅａｒｃｈＩｎｓｔｉｔｕｔｅｆｏｒＮｏｎ－ＦｅｒｒｏｕｓＭｅｔａｌｓ，Ｂｅｉｊｉｎｇ１０００８８，Ｃｈｉｎａ；２ＮａｔｉｏｎａｌＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇＬａｂｏｒａｔｏｒｙｆｏｒＨｙｄｒｏｍｅｔａｌｌｕｒｇｉｃａｌＣｌｅａｎｅｒＰｒｏｄｕｃｔｉｏｎＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，ＩｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＰｒｏｃｅｓｓＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ＣｈｉｎｅｓｅＡｃａｄｅｍｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅｓ，Ｂｅｉｊｉｎｇ１００１９０，Ｃｈｉｎａ；３ＫｅｙＬａｂｏｒａｔｏｒｙｏｆＧｒｅｅｎＰｒｏｃｅｓｓａｎｄＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ＩｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＰｒｏｃｅｓｓＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ＣｈｉｎｅｓｅＡｃａｄｅｍｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅｓ，Ｂｅｉｊｉｎｇ１００１９０，Ｃｈｉｎａ）摘要：氮化硼二维纳米材料具有与石墨烯相当的强度、较宽的带隙、优良的化学稳定性和热稳定性，在绝缘、含氧、高温的条件下具有独特的应用价值，其制备技术及性能的研究是近年来材料科学领域研究的热点之一。剥离制备方法尤其是化学剥离法具有成本低、质量好、容易控制等优点，是制备氮化硼二维纳米材料的有效方法。本文详述了各种剥离方法制备氮化硼二维纳米材料的现状、存在的问题，指出深入研究剥离机理、开发新型高效剥离方法、制备稳定单层氮化硼应该是今后本领域的重点研究方向。关键词：无机非金属材料；剥离技术；综述；氮化硼；化学剥离—ｄｏｉ：１０．１１８６８／ｊ．ｉｓｓｎ．１００１４３８１．２０１６．０３．０１９中图分类号：ＴＢ３４文献标识码：Ａ———文章编号：１００１４３８１（２０１６）０３０１２２０７——Ａｂｓｔｒａｃｔ：ＢｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｔＷＯｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌｎａｎｏｍａｔｅｒｉａｌｓｗｉｔｈａｓｉｍｉｌａｒｓｔｒｕｃｔｕｒｅｏｆｇｒａｐｈｅｎｅｈａｖｅａｕｎｉｑｕｅａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｖａｌｕｅａｔｉｎｓｕｌａｔｅｄ，ｏｘｙｇｅｎａｔｅｄａｎｄｈｉｇｈｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌｃｏｎｄｉｔｉｏｎｓｄｕｅｔｏｉｔｓｗｉｄｅｂａｎｄｇａｐ，ｅｘｃｅｌｌｅｎｔｃｈｅｍｉｃａｌａｎｄｔｈｅｒｍａｌｓｔａｂｉｌｉｔｉｅｓ．Ｒｅｓｅａｒｃｈｏｎｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎａｎｄｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｉｓｏｎｅｏｆｔｈｅｈｏｔａｒｅａｓｉｎｍａｔｅｒｉａｌｓｃｉｅｎｃｅ．Ｔｈｅｅｘｆｏｌｉａｔｉｎｇｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，ｅｓｐｅｃｉａｌｌｙｃｈｅｍｉｃａｌｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎ，—ｐｌａｙｓａｎｉｍｐｏｒｔａｎｔｒｏｌｅｉｎｔｈｅｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎｏｆｔｈｅｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｔＷＯｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌｎａｎｏｍａｔｅｒｉａｌｓｂｅｃａｕｓｅ—ｏｆｌｏｗｃｏｓｔ，ｈｉｇｈｑｕａｌｉｔｙａｎｄｃｏｎｔｒｏｌｌａｂｉｌｉｔｙ．Ｔｈｉｓｒｅｖｉｅｗｄｅｓｃｒｉｂｅｄｉｎｄｅｔａｉｌｐｒｏｇｒｅｓｓａｎｄｒｅｓｅａｒｃｈｓｔａｔｕｓ，ａｎｄｐｏｉｎｔｅｄｏｕｔｔｈａｔｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎｍｅｃｈａｎｉｓｍ，ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔｏｆｎｅｗｅｆｆｅｃｔｉｖｅｅｘｆｏｌｉａｔｉｎｇｍｅｔｈｏｄｓ，ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎｏｆｓｔａｂｌｅｍｏｎｏｌａｙｅｒｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｗｏｕｌｄｂｅｔｈｅｋｅｙａｒｅａｓｉｎｔｈｅｆｕｔｕｒｅ．—Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：ｉｎｏｒｇａｎｉｃｎｏｎｍｅｔａｌｌｉｃｍａｔｅｒｉａｌ；ｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ；ｒｅｖｉｅｗ；ｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅ；ｃｈｅｍｉｃａｌｅｘｆｎ】ｊａｔｉｏｎ氮化硼二维纳米材料作为类石墨烯二维纳米材料的一种，在某些方面具有与石墨烯互补的性质，如较宽的带隙（５～６ｅＶ）［】］，更优良的化学稳定性、热稳定℃性（２０００）口。］，独特的紫外发光性能等］，是制备电子器件绝缘膜、高温功率器件、紫外发光元件等元器件的理想材料。氮化硼一石墨烯二维复合纳米材料—（ＢＮＧ）极大提高了石墨烯的电导率和导热性＿６，在超微型计算机，微电子机器人等方面具有广阔应用。但由于其特殊的分子间作用力，氮化硼二维纳米材料的制备还存在许多问题。近年来，氮化硼二维纳米材料制备技术的研究成为材料科学界的研究热点之一。“氮化硼二维纳米材料制备技术可以主要分为自”“”下而上的合成法和自上而下的剥离法两大类。合成法的代表方法为化学气相沉积（ＣＶＤ）法Ｉ】卜Ｍ，其基本流程为将含有氮和硼的原料以加热等方式变成气态，由惰性气体输送，在较高的温度下沉积在晶格匹配且非常洁净的基板上。合成法对实验条件要求较高、第４４卷第３期氮化硼二维纳米材料剥离制备技术研究进展１２３制备成本高、不易控制且产量较低，难以大规模生产应用。剥离法代表方法为化学剥离法，利用溶剂与氮化硼材料的相互作用对抗原子层之间范德华力，具有成本低、产量高、质量好的优势，是最有前景的氮化硼纳米片规模化制备方法。本文系统介绍了氮化硼二维纳米材料剥离制备技术，简要介绍了各种方法的原理和优缺点，并展望了氮化硼二维纳米材料剥离制备技术的发展方向。１氮化硼二维纳米材料剥离制备技术氮化硼二维纳米材料剥离法的基础在于其特殊的片层结构＿ｌ。。在每一原子层内，Ｎ原子和Ｂ原子交替组成无限延伸的六边形网格，Ｂ原子和Ｎ原子以—ｓｐ杂化共价键连接，键长ａｂ一０．２５０４ｎｍ；层与层…之间沿Ｃ轴方向按照ＡＢＡＢ方式排列，主要为范德华力作用，键长ｃ一０．６６６１ｎｍ（两原子层）；作用力性质的不同及原子间距离的差异导致层与层之间的作用力弱于层内原子之间的作用力。剥离法便是利用各种方式对抗层与层之间的作用力从而实现氮化硼的剥离。相比石墨烯而言，氮化硼的剥离难度更高，这是由于氮化硼结构中Ｂ原子与Ｎ原子的电负性差异使得原子层之间的作用力除范德华力外还带有部分离子键性质的作用力，被称作ｌｉｐ－ｌｉｐ作用［２。现有的氮化硼二维纳米材料制备方法主要分为机械剥离法和化学剥离法。机械剥离法主要包括胶带剥离法、等离子体刻蚀法、球磨法和流体剥离法；化学剥离法主要包括液相超声法、化学功能化法和离子插入剥离法。２机械剥离法２．１胶带剥离法胶带剥离法利用胶带的黏性对抗氮化硼层与层之间的范德华力，是剥离层状纳米材料最简单的方法，最初由Ｎｏｖｏｓｅｌｏｖ等口。］成功应用于制备石墨烯，并于次年得到晶体完整的原子层厚度的氮化硼纳米片［２。Ｐａｃｉｌｅ等［２５］将块体材料换成氮化硼粉末，用类似方法得到大约１Ｏ个原子层的氮化硼纳米片。胶带剥离法简单易行，但是随机性较大，不易控制且产量很低，得到的氮化硼纳米片往往直径较小（几个到几十微米），而且缺陷较多［２。只能用于科学研究，无法生产应用。２．２等离子体刻蚀法等离子体具有较高的能量可以打开分子之间的作用力，等离子体刻蚀法利用氧和氮的等离子体刻蚀六方氮化硼层状材料或氮化硼纳米管得到氮化硼纳米片。Ａｌｅｍ等ｌ＿２将六方氮化硼粉末用胶带剥离法处理后，用离子刻蚀技术直接将氮化硼薄片剥离至少层或单层。Ｚｅｎｇ等ｌ＿２。］用Ａｒ等离子体刻蚀氮化硼纳米管，也称为氮化硼纳米管的解链（ｕｎｚｉｐｐｉｎｇ），将氮化硼纳米管固定在洁净的Ｓｉ基底上，并用Ａｒ等离子体打开共价键，最终得到长ｌｍ，宽２０￣５０ｎｍ，厚度为２～１Ｏ层（每３层原子层约厚ｌｎｍ，下同）的氮化硼纳米带。等离子体刻蚀法使得少层或单层氮化硼纳米片的制备变得可控，提高了成功率，但是设备要求高，制备步骤复杂，难以大规模制备。２．３球磨法球磨法利用了硬球与氮化硼结构的相互作用，一方面，在球磨过程中，硬球与氮化硼层状结构侧面的碰撞使氮化硼片层起皱甚至剥落；另一方面，球磨时产生的高能量也为氮化硼原子层之间的分离提供了能量来源。Ｘｉａ等＿２９＿研究了球磨时长对剥离氮化硼层状材料的影响，随着研磨时间的延长，氮化硼纳米片平均直径下降明显，并出现较多的乱层结构。Ｓｔｒｅｌｅｔｓｋｉｉ等Ｌ３０＿以球磨机的输人功率为控制条件，得到厚度小于５ｎｍ的氮化硼纳米片，并通过吸附性测试发现其具有高达４００ｍ／ｇ的比表面积，能良好地应用于吸附，催化领域［３。Ｌｉ等采用行星球磨机，配以较小直径的摩擦球并加入润滑剂，所得到的氮化硼纳米片结晶性有较大改善，但依然引入了较多缺陷。总体而言，球磨法方法简单，但选择性差，难以准确控制８成的氮化硼纳米片有较多缺陷，难以制备较大面积结晶良好的氮化硼纳米片。２．４流体剥离法高速流动的流体具有一定的剪切力，可以推动氮化硼片层滑移，使氮化硼得到快速有效的剥离。Ｙｕｒｄａｋｕｌ等［３。将氮化硼粉末分散在ＤＭＦ和氯仿混合的溶剂中（叫＝＝＝６），用２０７ＭＰａ的高压将混合溶液压入微流体容器中，得到厚约８～１２ｎｍ的氮化硼纳米片，剥离率高达４５，具有较好的工业应用价值。２０１２年Ｃｈｅｎ等ｌ＿３利用自制的涡流离心旋转设备，将少量氮化硼粉末分散在ＮＭＰ中，以４５。角斜向高速旋转，利用离心力和流体的剪切力共同作用，得到５９／６的单层氮化硼纳米片。图１是该方法的剥离机理。Ｙｉ等［３用自制的高速流场设备，以二甲基甲酰胺（ＤＭＦ）为溶剂，配成初始浓度为０．１ｍｇ／ｍＬ的分散液，用活塞泵产生压力推动分散液在狭窄管道中流动，得到厚度为４～５层的氮化硼纳米片。流体剥离法操作简便，成本低，效果好，有较好的工业应用价值。１２４材料工程２０１６年３月Ｆｌｕｉｄｄｙｎａｍｉｃｓｓｕｇｇｅｓｔｓｕｐｗａｒｄｌｉｑｕｉｄｆｌｏｗｎｅａｒｔｈｅｉｎｎｅｒｗａｌｌｏｆｔｈｅｒｏｔａｔｉｎｇｔｕｂｅ（１ｅｆｔ），ｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎｐｒｏｃｅｓｓ（ｍｉｄｄｌｅ），ｓｌｉｐｐａｇｅｏｎｔｈｅｉｎｎｅｒｓｕｒｆａｃｅｏｆｔｈｅｔｕｂｅ（ｒｉｇｈｔ）图１涡流分离示意图［。４３Ｆｉｇ．１Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｓｃｈｅｍａｔｉｃｏｆｖｏｒｔｅｘｆｌｕｉｄｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎ［３４３３化学剥离法３．１液相超声法液相超声法口利用溶剂分子与氮化硼表面之间的作用，并辅助超声波的能量打开氮化硼层与层之间的范德华力，使剥离得到的氮化硼纳米片分散在特定的溶剂中，这种方法在石墨烯剥离中有过很好的应用＿３。溶剂的选择很重要，一方面要对氮化硼有良好的剥离效果，另一方面又要防止氮化硼纳米片的团聚＿１］。溶剂的选择可以参考Ｈａｎｓｅｎ溶解参数理论（ＨＳＰ）＿３，见公式（１）：Ｒ＝［４（１－８Ｄｌ）。＋（，ｓ０ｌ－８ｎｌｌ１）＋（ｌ一１）Ｊ（１）式中：Ｒ。称为Ｈａｎｓｅｎ溶解参数距离，其值越小，可能的溶解度越高；。，，分别代表溶剂或材料本身的分散性，极性，氢键结合力；角标ｓｏｌｖ，ｓｏｌｕ分别代表溶剂和溶质。从公式可以看出所选择的溶剂应具有一定的分散性，极性和氢键结合力，使层状材料的剥离能最小化［２，借助超声波的空化作用打开层之间的范德华力从而实现氮化硼层状材料的剥离。Ｈａｎｓｏｎ溶解参数理论已经被很多实验证实。Ｚｈｉ等＿３叼将氮化硼分散在二甲基甲酰胺（ＤＭＦ）中配成２５ｍｇ／ｍＬ的高浓度分散液，超声处理１０ｈ后离心分离，上清液中得到厚度为１～４ｎｍ的氮化硼纳米片，并发现其作为添加剂使用时，可以极大地提高复合材料的热力学性质。Ｗａｒｎｅｒ等＿４将少量六方氮化硼粉末混入１，２一二氯乙烷中，水浴超声３ｈ得到２～１Ｏ层的氮化硼纳米片；并详细研究了氮化硼纳米片受电子束照射时的损伤情况。Ｃｏｌｅｍａｎ等［３］系统研究了溶剂表面能与二维层状纳米材料的关系，认为甲基吡咯烷酮（ＮＭＰ）和异丙醇（ＩＰＡ）由于其表面能与氮化硼相近，对氮化硼的剥离有良好的效果，并制备出以ＩＰＡ为溶剂，浓度为０．０６ｍｇ／ｍＬ分散良好的氮化硼纳米片。随后高冠慧＿４及Ｔａｈａ－Ｔｉｊｅｒｉｎａ等ｌ＿４。用相同溶剂，水浴超声得到厚为５～１０层的氮化硼纳米片，证明了ＩＰＡ具有良好剥离效果。不同的溶剂具有不同的物理化学性质，由Ｈａｎｓｅｎ溶解度参数理论可以推断：多溶剂的混合有可能得到更小的Ｒ值，从而提高溶剂整体的剥离或分散性能。Ｚｈｏｕ等［４。］以体积分数为５５的乙醇和水混合溶液作为分散剂，超声离心后得到厚３～４ｎｍ浓度０．０７５ｍｇ／ｍＬ的氮化硼纳米片，略高于Ｃｏｌｅｍａｎ等ｌ＿３。用ＩＰＡ做剥离溶剂得到的浓度（Ｏ．０６ｍｇ／ｍＬ）。Ｃａｏ等＿４以氨水溶液和ＩＰＡ（氨水：ＩＰＡ约为３：２）溶液作为分散剂，配以２０ｍｇ／ｍＬ的分散液，超声３５ｈ后３０００ｇ离心得到的氮化硼纳米片具有很高的稳定性，回收率高达２０，剥离稳定性和剥离率都较高。同年Ｙａｎｇ等［６用芘衍生物水溶液以类似的方法得到小于６原子层的氮化硼纳米片。Ｍａｒｓｈ等＿４用液相超声法系统测试了甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、丙酮和叔丁醇与水的不同掺比的混合溶液与对氮化硼的剥离效果的影响，紫外光谱数据表明，６Ｏ的叔丁醇溶液不论是剥离效果还是分散溶液的稳定性均最佳。以上结果表明：不同溶液的适当混合可以使剥离效果提升，但其原理有待进一步研究。一些偏离Ｈａｎｓｅｎ溶解度参数理论的溶剂也可以实现对氮化硼的剥离：Ｌｉｎ等［４以纯水为溶剂配成２ｍｇ／ｍＬ的氮化硼水溶液并超声１０ｈ，得到洁净的水中分散的氮化硼纳米片。以水为溶剂不仅利用了水分子的极性作用，同时超声的能量也促进了氮化硼的水解作用。Ｗａｎｇ等［４将六方氮化硼粉末分散入一种简单的质子磺酸一甲基磺酸中配成２ｍｇ／ｍＬ溶液，超声处理８ｈ后离心分离取上清液，得到厚度小于３ｎｍ的氮化硼纳米片，所得到的氮化硼纳米片溶解度达到约０．３ｍｇ／ｍＩ并能够很好地重新分散到其他的溶剂中。３．２化学功能化法某些溶剂分子可以黏附在氮化硼的表面，所携带的功能化基团产生的排斥力足够抵抗令氮化硼重新聚合的范德华力。外界能量（如超声）诱导剥离得到的氮化硼纳米片难以重新聚合，从而使氮化硼纳米片在溶剂中稳定分散，这种方法在提高碳纳米管稳定性以及对碳纳米管改性方面具有良好的应用［４。Ｌｉｎ等采用己二酸异辛癸酯或氨基端聚乙二醇作为溶剂，与氮化硼粉末混合，在氮气保护下加热４～６天，超声和离心处理后得到直径几十纳米到一微米，厚１～７ｎｍ，高度稳定的氮化硼纳米片。己二酸异辛癸酯或氨基端聚乙二醇均为端部氨基并带有疏水性的烷基结构，端部的氨基可以与氮化硼表面中的Ｂ原子相结合，而烷１２６材料工程２０１６年３月Ｈａｎｓｅｎ溶解参数理论［３等实验理论，几乎都是半经验性质，只能用来部分指导氮化硼二维纳米材料的制备，还远未达到准确预测氮化硼制备效果的程度；同时，制备条件如剥离时间、超声功率、离心转速等反应参数的确定还属于实验性质。。。因此，需要大量的研究深入了解氮化硼剥离时的反应机理，开展包括材料、物理、化学、纳米技术等的多学科交叉研究是氮化硼二维纳米材料剥离机理突破的关键。（２）氮化硼二维纳米材料制备技术的改进相对于石墨烯，氮化硼二维纳米材料制备方法研究还不完善。除了研究新的制备方法，还可以将原有制备方法进行改进或不同方法进行结合，如合成法与剥离方法的结合［５，机械剥离法与化学剥离法的结合等。产量更大、原子层数更均一、质量更稳定、收率更高是氮化硼二维纳米材料制备技术的几个重要发展方向。（３）制备单层氮化硼烯对于二维纳米材料来说，需要获得稳定的、独立的、缺陷较少或无缺陷的单层结构。这里称为氮化硼烯的制备，不仅是对氮化硼二维纳米材料性质研究的需要，也是对某些应用如超微型电子元器件的应用需要。氮化硼剥离技术目前还没有办法制备出大量稳定的单层氮化硼烯，需要进一步开发新的制备工艺与方法。氮化硼二维纳米材料具有优良的物理、化学性质，具有广阔的应用前景，随着制备技术的完善和性能研究的深入，氮化硼二维纳米材料必将在微电子制造、光学元器件等应用领域发挥积极作用。［１］［２］［３］［４］［５］［６３参考文献—ＷＡＴＡＮＡＢＥＫ，ＴＡＮＩＧＵＣＨＩＴ，ＫＡＮＤＡＨ．Ｄｉｒｅｃｔｂａｎｄｇａｐｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓａｎｄｅｖｉｄｅｎｃｅｆｏｒｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔｌａｓｉｎｇｏｆｈｅｘａｇｏｎａｌｂｏｒｏｎ—ｎｉｔｒｉｄｅｓｉｎｇｌｅｃｒｙｓｔａｌ［Ｊ］．ＮａｔｕｒｅＭａｔｅｒｉａｌｓ，２００４，３（６）：４０４４０９．—ＬＩＮＹ，Ｃ０ＮＮＥＬＬＪＷ．Ａｄｖａｎｃｅｓｉｎ２Ｄｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｎａｎｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅｓ：ｎａｎｏｓｈｅｅｔｓ，ｎａｎｏｒｉｂｂｏｎｓ，ｎａｎｏｍｅｓｈｅｓ，ａｎｄｈｙｂｒｉｄｓｗｉｔｈ—ｇｒａｐｈｅｍｅ［Ｊ］．Ｎａｎｏｓｃａｌｅ，２０１２，４（２２）：６９０８６９３９．—ＢＵＴＬＥＲＳＺ，ＨＣ｝ＬＬＥＮＳＭ，ＣＡＯＬ，ｅｔａ１．Ｐｒｏｇｒｅｓｓ，ｃｈａｌｌｅｎ——ｇｅｓ，ａｎｄｏｐｐｏｒｔｕｎｉｔｉｅｓｉｎｔｗｏｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌｍａｔｅｒｉａｌｓｂｅｙｏｎｄｇｒａｐｈ—ｅｍｅ［Ｊ］．ＡＣＳＮａｎｏ，２０１３，７（４）：２８９８２９２６．ＹＵＪ，ＱＩＮＬ，ＨＡＯＹＦ，ｅｔａ１．Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙａｌｉｇｎｅｄｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｎａｎｏｓｈｅｅｔｓ：ｃｈｅｍｉｃａｌｖａｐｏｒｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔｌｉｇｈｔｅｍｉｓｓｉｏｎ，—ａｎｄｓｕｐｅｒｈｙｄｒ０ｐｈｏｂｉｃｉｔｙ［Ｊ］．ＡＣＳＮａｎｏ，２０１０，４（１）：４１４４２２．—ＺＨＵＹＣ，ＹＯＳＨＩＯＢ，ＸＵＥＤＦ，ｅｔａ１．Ｎｅｗｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｗｈｉｓｋｅｒｓｓｈｏｗｉｎｇｓｔｒｏｎｇｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔａｎｄｖｉｓｉｂｌｅｌｉｇｈｔｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｅ［Ｊ］．—ＪｏｕｒｎａｌｏｆＰｈｙｓｉｃａｌＣｈｅｍｉｓｔｒｙ：Ｂ，２００４，１０８（２０）：６１９３６１９６．ＹＡＮＧＨＦ，ＷＩＴＨＥＲＳＦ，ＧＥＢＲＥＭＥＤＨＮＥ，ｅｔａ１．Ｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃ—ｎａｎｏｓｈｅｅｔｓｍａｄｅｂｙｌｉｑｕｉｄｐｈａｓｅｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎｉｎｗａｔｅｒａｎｄｔｈｅｉｒｕｓｅ—ｉｎｇｒａｐｈｅｎｅｂａｓｅｄｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ［Ｊ］．２ＤＭａｔｅｒｉａｌｓ，２０１４，１（１）：０１１—０１２．［７］ＢＯＬＯＴＩＮＫＩ，ＳＩＫＥＳＫＪ，ＪＩＡＮＧＺ，ｅｔａ１．Ｕｌｔｒａｈｉｇｈｅｌｅｃｔｒｏｎｍｏｂｉｌｉｔｙｉｎｓｕｓｐｅｎｄｅｄｇｒａｐｈｅｍｅ［Ｊ］．ＳｏｌｉｄＳｔａｔｅＣｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓ，—２００８，１４６（９）：３５１３５５．—ｒ８］ＤＥＡＮＣＲ，ＹＯＵＮＧＡＦ，ＭＥＲＩＣＩ，ｅｔａ１．Ｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｓｕｂ—ｓｔｒａｔｅｓｆｏｒｈｉｇｈ－ｑｕａｌｉｔｙｇｒａｐｈｅｎｅｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ［Ｊ］．ＮａｔｕｒｅＮａｎｏ—ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，２０１０，５（１０）：７２２７２６．［９］ＢＥＲＧＩＮＳＤ，ＳＵＮＺＹ，ＲＩＣＫＡＲＤＤ，ｅｔａ１．Ｍｕｌｔｉｃｏｍｐｏｎｅｎｔ—ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙｐａｒａｍｅｔｅｒｓｆｏｒｓｉｎｇｌｅｗａｌｌｅｄｃａｒｂｏｎｎａｎｏｔｕｂｅｓｏｌｖｅｎｔ—ｍｉｘｔｕｒｅｓ［Ｊ］．ＡＣＳＮａｎｏ，２００９，３（８）：２３４０２３５０．［１Ｏ］杨文彬，张丽，刘菁伟，等．石墨烯复合材料的制备及应用研究进—展［Ｊ］．材料工程，２０１５，４３（３）：９１９７．——ＹＡＮＧＷｅｎｂｉｎ，ＺＨＡＮＧＬｉ，ＬＩＵＪｉｎｇｗｅｉ，ｅｔａ１．Ｐｒｏｇｒｅｓｓｉｎｒｅｓｅａｒｃｈｏｎｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎａｎｄａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｏｆｇｒａｐｈｅｎｅｃｏｍｐｏｓｉｔｅｓ—［Ｊ］．ＪｏｕｒｎａｌｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，２０１５，４３（３）：９１９７．—ｒ１１］ＰＡＫＤＥＬＡ，ＢＡＮＤＯＹ，ＧＯＬＢＥＲＧＤ．Ｎａｎｏｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｆｌａｔ—ｌａｎｄ［Ｊ］．ＣｈｅｍｉｃａｌＳｏｃｉｅｔｙＲｅｖｉｅｗｓ，２０１４，４３（３）：９３４９５９．—［１２］ＨＥＭＭＩＡ，ＢＥＲＮＡＲＤｃ，ＣＵＮＨ，ｅｔａ１．Ｈｉｇｈｑｕａｌｉｔｙｓｉｎｇｌｅａ—ｔｏｍｉｃｌａｙｅｒｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎｏｆｈｅｘａｇｏｎａｌｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｏｎｓｉｎｇｌｅｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅＲｈ（１１１）ｆｏｕｒ－ｉｎｃｈｗａｆｅｒｓ［Ｊ］．ＲｅｖｉｅｗｏｆＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃＩｎ－ｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，２０１４，８５：０３５１０１．［１３］ＭＵＬＬＥＲＦ，ＨＯＦＮＥＲＳ，ＳＡＣＨＤＥＶＨ，ｅｔａ１．Ｅｐｉｔａｘｉａｌ—ｇｒｏｗｔｈｏｆｈｅｘａｇｏｎａｌｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｍｏｎｏｌａｙｅｒｓｂｙａｔｈｒｅｅｓｔｅｐ——ｂｏｒａｔｉｏｎｏｘｉｄａｔｉｏｎｎｉｔｒａｔｉｏｎｐｒｏｃｅｓｓ［Ｊ］．ＰｈｙｓｉｃａｌＲｅｖｉｅｗ：Ｂ，——２Ｏ１０，８２（７）：１１３４０６１４．—［１４］ＧＯＲＩＡＣＨＫＯＡ，ＨＥＹＢ，ＫＮＡＰＰＭ，ｅｔａ１．ＳｅｌｆａｓｓｅｍｂｌｙｏｆａｈｅｘａｇｏｎａｌｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｎａｎｏｍｅｓｈｏｎＲｕ（０００１）口］．Ｌａｎｇｍｕｉｒ，—２００７，２３（６）：２９２８２９３１．—［１５］ＳＯＮＧＬ，ＣＩＬＪ，ＬｕＨ，ｅｔａ１．Ｌａｒｇｅｓｃａｌｅｇｒｏｗｔｈａｎｄｃｈａｒａｃｔｅｒ—ｉｚａｔｉｏｎｏｆａｔｏｍｉｃｈｅｘａｇｏｎａｌｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｌａｙｅｒｓ［Ｊ］．ＮａｎｏＬｅｔ—ｔｅｒｓ，２０１０，１０（８）：３２０９３２１５．—［１６］ＫＩＭＫＫ，ＨＳＵＡ，ＪＩＡｘＴ，ｅｔａ１．ＳｙｎｔｈｅｓｉｓｏｆｍｏｎｏｌａｙｅｒｈｅｘａｇｏｎａｌｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｏｎＣｕｆｏｉｌｕｓｉｎｇｃｈｅｍｉｃａｌｖａｐｏｒｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ口］．ＮａｎｏＬｅｔｔｅｒｓ，２０１ｉ，１２（１）：１６１一Ｉ６６．—［１７］ＳＨＩＹＭ，ＨＡＭＳＥＮＣ，ＪＩＡＸＴ，ｅｔａ１．Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓｏｆｆｅｗｌａｙｅｒｈｅｘａｇｏｎａｌｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｔｈｉｎｆｉｌｍｂｙｃｈｅｍｉｃａｌｖａｐｏｒｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ—［Ｊ］．ＮａｎｏＬｅｔｔｅｒｓ，２０１０，１０（１０）：４１３４４１３９．［１８］陈牧，颜悦，张晓锋，等．大面积石墨烯薄膜转移技术研究进展—［Ｊ］．航空材料学报，２０１５，３５（２）：１１１．—ＣＨＥＮＭｕ，ＹＡＮＹｕｅ，ＺＨＡＮＧＸｉａｏｆｅｎｇ，ｅｔａ１．Ａｄｖａｎｃｅｓｉｎ—ｌａｒｇｅａｒｅａｇｒａｐｈｅｎｅｆｉｌｍｔｒａｎｓｆｅｒｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ［Ｊ］．Ｊｏｕｒｎａｌｏｆ—ＡｅｒｏｎａｕｔｉｃａｌＭａｔｅｒｉａｌｓ，２０１５，３５（２）：１１１．［１９］薛雅芳．六方氮化硼和石墨的剥离，改性及性能［Ｄ］．上海：东华大学，２０１３．——ＸＵＥＹａｆａｎｇ．Ｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎ，ｍｏｄｉｆｉｃａｔｉｏｎａｎｄｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｎｈｅｘａ—ｇｏｎａｌｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅａｎｄｇｒａｐｈｉｔｅ［Ｄ］．Ｓｈａｎｇｈａｉ：ＤｏｎｇｈｕａＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙ，２０１３．ｒ２Ｏ］—ＰＡＳＺＫＯＷＩＣＺＷ，ＰＥＬＫＡＪＢ，ＫＮＡＰＰＭ，ｅｔａ１．Ｌａｔｔｉｃｅｐａｒａｍｅｔｅｒｓａｎｄａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃｔｈｅｒｍａｌｅｘｐａｎｓｉｏｎｏｆｈｅｘａｇｏｎａｌｂｏｒｏｎ——ｎｉｔｒｉｄｅｉｎｔｈｅ１０２９７．５Ｋｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｒａｎｇｅ［Ｊ］．ＡｐｐｌｉｅｄＰｈｙｓ—ｉｃｓ：Ａ，２００２，７５（３）：４３１４３５．ｒ２１］ＮＩＣＯＬＯＳＩＶ，ＣＨＨＯＷＡＬＬＡＭ，ＫＡＮＡＴＺＩＤＩＳＭＧ，ｅｔａ１．第４４卷第３期氮化硼二维纳米材料剥离制备技术研究进展１２７Ｌｉｑｕｉｄｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎｏｆｌａｙｅｒｅｄｍａｔｅｒｉａｌｓ［Ｊ］．Ｓｃｉｅｎｃｅ，２０１３，３４０—（６１３９）：１４２０１４３８．—［２２］ＧＯＬＢＥＲＧＤ，ＢＡＮＤＯＹ，ＨＵＡＮＧＹ，ｅｔａ１．Ｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｎａｎｏ—ｔｕｂｅｓａｎｄｎａｎｏｓｈｅｅｔｓ［Ｊ］．ＡＣＳＮａｎｏ，２０１０，４（６）：２９７９２９９３．［２３］ＮＯＶＯＳＥＬＯＶＫＳ，ＧＥＩＭＡＫ，ＭＯＲＯｚＯＶｓＶ，ｅｔａ１．Ｅｌｅｃｔｒｉｃｆｉｅｌｄｅｆｆｅｃｔｉｎｖｏｒｔｅｘａｑｕａｌｌｙｔｈｉｎｃａｒｂｏｎｆｉｌｍｓ［Ｊ］．Ｓｃｉｅｎｃｅ，２００４，—３０６（５６９６）：６６６６６９．——［２４］Ｎ０ＶＯｓＥＬ０ＶＫＳ，ＪＩＡＮＧＤ，ＳＣＨＥＤＩＮＦ，ｅｔａ１．Ｔｗｏｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌａｔｏｍｉｃｃｒｙｓｔａｌｓ［Ｊ］．ＰｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓｏｆｔｈｅＮａｔｉｏｎａｌＡｃａｄｅｍｙ—ｏｆＳｃｉｅｎｃｅｓ，２００５，１Ｏ２（３Ｏ）：１０４５１１０４５３．—［２５］ＰＡＣＩＬＥＤ，ＭＥＹＥＲＪＣ，ＧＩＲＩＴＣＯ，ｅｔａ１．Ｔｈｅｔｗｏ－ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌｐｈａｓｅｏｆｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅ：ｆｅｗ－ａｔｏｍｉｃ－ｌａｙｅｒｓｈｅｅｔｓａｎｄｓｕｓｐｅｎｄｅｄ—ｍｅｍｂｒａｎｅｓ［Ｊ］．ＡｐｐｌｉｅｄＰｈｙｓｉｃｓＬｅｔｔｅｒｓ，２００８，９２（１３）：１３３１０７—１３．—［２６］ＫＵＢＯＴＡＹ，ＷＡＴＡＮＡＢＥＫ，ＴＳＵＤＡ０，ｅｔａ１．Ｄｅｅｐｕｌｔｒａｖｉｏ——ｌｅｔｌｉｇｈｔ－ｅｍｉｔｔｉｎｇｈｅｘａｇｏｎａｌｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｓｙｎｔｈｅｓｉｚｅｄａｔａｔｍｏｓ＿—ｐｈｅｒｉｃｐｒｅｓｓｕｒｅ［Ｊ］．Ｓｃｉｅｎｃｅ，２００７，３１７（５８４０）：９３２９３４．［ｚ７３ＡＬＥＭＮ，ＥＲＮＩＲ，ＫＩｓＩＥＬ０ｗｓＫＩＣ，ｅｔａ１．Ａｔｏｍｉｃａｌｌｙｔｈｉｎ——ｈｅｘａｇｏｎａｌｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｐｒｏｂｅｄｂｙｕｌｔｒａｈｉｇｈ。ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎｔｒａｎｓｍｉｓ－ｓｉｏｎｅｌｅｃｔｒｏｎｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ［Ｊ］．ＰｈｙｓｉｃａｌＲｅｖｉｅｗ：Ｂ，２００９，８０（１５）：——１５５４２５１７．“”［２８］ＺＥＮＧＨＢ，ＺＨＩＣＹ，ＺＨＡＮＧｚＨ，ｅｔａ１．Ｗｈｉｔｅｇｒａｐｈｅｎｅｓ：ｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｎａｎｏｒｉｂｂｏｎｓｖｉａｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｎａｎｏｔｕｂｅｕｎｗｒａｐｐｉｎｇ—［Ｊ］．ＮａｎｏＬｅｔｔｅｒｓ，２０１０，１０（１２）：５０４９５０５５．［２９］ＸＩＡｚＰ，ＬＩｚＱ．ＳｔｒｕｃｔｕｒａｌｅｖｏｌｕｔｉｏｎｏｆｈｅｘａｇｏｎａｌＢＮａｎｄｃｕｂｉｃＢＮｄｕｒｉｎｇｂａｌｌｍｉｌｌｉｎｇ［Ｊ］．ＪｏｕｒｎａｌｏｆＡｌｌｏｙｓａｎｄＣｏｍｐｏｕｎｄｓ，—２００７，４３６（１）：１７０１７３．ｒ３Ｏ］ＳＴＲＥＬＥＴＳＫＩＩＡＮ，ＰＥＲＭＥＮＯＶＤＧ，ＢＯＫＨＯＮ０ＶＢＢ，ｅｔ—ａ１．Ｄｅｓｔｒｕｃｔｉｏｎ，ａｍｏｒｐｈｉｚａｔｉｏｎａｎｄｒｅａｃｔｉｖｉｔｙｏｆｎａｎｏＢＮｕｎｄｅｒｂａｌｌｍｉｌｌｉｎｇ［Ｊ］．ＪｏｕｒｎａｌｏｆＡｌｌｏｙｓａｎｄＣｏｍｐｏｕｎｄｓ，２００９，４８３—（１）：３１３３１６．［３１］袁颂东，熊坤，胡昆鹏，等．以氯化铵为添加剂制备高比表面六方—氮化硼多孔材料及性能研究［Ｊ］．材料工程，２０１３，（１０）：５３５６．———ＹＵＡＮＳｏｎｇｄｏｎｇ，ＸＩＯＮＧＫｕｎ，ＨＵＫｕｎｐｅｎｇ，ｅｔａ１．Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎａｎｄｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆｈ－ＢＮｐｏｒｏｕｓｍａｔｅｒｉａｌｗｉｔｈｈｉｇｈｓｐｅｃｉｆｉｃ—ｓｕｒｆａｃｅａｒｅａｂｙａｄｄｉｎｇＮＨ４Ｃ１［Ｊ］．ＪｏｕｒｎａｌｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓＥｎｇｉ—ｎｅｅｒｉｎｇ，２０１３，（１０）：５３５６．—［３２］ＬＩＬＨ，ＣＨＥＮＹ，ＢＥＨＡＮＧ，ｅｔａ１．Ｌａｒｇｅｓｃａｌｅｍｅｃｈａｎｉｃａｌｐｅｅｌｉｎｇｏｆｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｎａｎｏｓｈｅｅｔｓｂｙｌｏｗ－ｅｎｅｒｇｙｂａｌｌｍｉｌｌｉｎｇ—［Ｊ］．ＪｏｕｒｎａｌｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，２０１１，２１（３２）：１１８６２１１８６６．［３３］ＹＵＲＤＡＫＵＬＨ，ＧＯＮＣＵＹ，ＤＵＲＵＫＡＮＯ，ｅｔａ１．Ｎａｎｏｓｃｏｐｉｃ——ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉ０ｎｏｆｔｗｏｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ（２Ｄ）ｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｎａｎｏｓｈｅ—ｅｔｓ（ＢＮＮＳｓ）ｐｒｏｄｕｃｅｄｂｙｍｉｃｒ０ｆ１ｕＩｄｉｚａｔｉｏｎ［Ｊ］．ＣｅｒａｍｉｃｓＩｎｔｅｒ—ｎａｔｉｏｎａｌ，２０１２，３８：２１８７２１９３．—［３４］ＣＨＥＮＸＪ，ＤＯＢＳＯＮＪＦ，ＲＡＳＴＯＮＣＬ．Ｖｏｒｔｅｘｆｌｕｉｄｉｃｅｘｆｏｌｉ—ａｔｉｏｎｏｆｇｒａｐｈｉｔｅａｎｄｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅ［Ｊ］．ＣｈｅｍｉｃａｌＣｏｍｍｕｎｉｃａ—ｔｉｏｎｓ，２０１２，４８（３１）：３７０３３７０５．—［３５］ＹＩＭ，ＳＨＥＮｚＧ，ＺＨＵＪＹ．Ａｆｌｕｉｄｄｙｎａｍｉｃｓｒｏｕｔｅｆｏｒｐｒｏｄｕｃｉｎｇｇｒａｐｈｅｎｅａｎｄｉｔｓａｎａｌｏｇｕｅｓ［Ｊ］．ＣｈｉｎｅｓｅＳｃｉｅｎｃｅＢｕｌｌｅｔｉｎ，—２０１４，５９（１６）：１７９４１７９９．—［３６］ＨＥＲＮＡＮＤＥＺＹ，ＮＩＣＯＬＯＳＩＶ，ＬＯＴＹＡＭ，ｅｔａ１．Ｈｉｇｈｙｉｅｌｄ［３７］［３８］［３９］［４Ｏ］［４１］［４２］［４３］［４４］［４５］［４６］［４７］［４８］［４９］［５ｏ３［５１］ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎｏｆｇｒａｐｈｅｎｅｂｙｌｉｑｕｉｄ－ｐｈａｓｅｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎｏｆｇｒａｐｈｉｔｅ—［Ｊ］．ＮａｔｕｒｅＮａｎ０ｔｅｃｈｎｏｌ０ｇｙ，２００８，３（９）：５６３５６８．ＢＥＲＧＩＮＳＤ，ＳＵＮＺＹ，ＲＩＣＫＡＲＤＤ，ｅｔａ１．Ｍｕｌｔｉｃｏｍｐｏｎｅｎｔ—ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙｐａｒａｍｅｔｅｒｓｆｏｒｓｉｎｇｌｅｗａｌｌｅｄｃａｒｂｏｎｎａｎｏｔｕｂｅ－ｓｏｌｖｅｎｔ—ｍｉｘｔｕｒｅｓ［Ｊ］．ＡＣＳＮａｎｏ，２００９，３（８）：２３４０２３５０．’—Ｃ０ＬＥＭＡＮＪＮ，ＬＯＴＹＡＭ，０ＮＥＩＬＬＡ，ｅｔａ１．Ｔｗｏ－ｄｉｍｅｎ—ｓｉｏｎａｌｎａｎｏｓｈｅｅｔｓｐｒｏｄｕｃｅｄｂｙｌｉｑｕｉｄｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎｏｆｌａｙｅｒｅｄｍａｔｅ—ｒｉａｌｓ［Ｊ］．Ｓｃｉｅｎｃｅ，２０１１，３３１（６０１７）：５６８５７１．ＺＨＩＣＹ，ＢＡＮＤ０Ｙ，ＴＡＮＧＣＣ，ｅｔａ１．Ｌａｒｇｅ－ｓｃａｌｅｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎｏｆｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｎａｎｏｓｈｅｅｔｓａｎｄｔｈｅｉｒｕｔｉｌｉｚａｔｉｏｎｉｎｐｏｌｙｍｅｒｉｃｃｏｍｐｏｓｉｔｅｓｗｉｔｈｉｍｐｒｏｖｅｄｔｈｅｒｍａｌａｎｄｍｅｃｈａｎｉｃａｌｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ［Ｊ］．—ＡｄｖａｎｃｅｄＭａｔｅｒｉａｌｓ，２００９，２１（２８）：２８８９２８９３．—ＷＡＲＮＥＲＪＨ，ＲＵＭＭＥＬＩＭＨ，ＢＡＣＨＭＡＴＩＵＫＡ，ｅｔａ１．Ａｔｏｍｉｃｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎｉｍａｇｉｎｇａｎｄｔｏｐｏｇｒａｐｈｙｏｆｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｓｈｅｅｔｓｐｒｏｄｕｃｅｄｂｙｃｈｅｍｉｃａｌｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎ［Ｊ］．ＡＣＳＮａｎｏ，２０１０，４（３）：—１２９９１３０４．高冠慧．二维层状材料的剥离及其复合物的制备与性能研究［Ｄ］．青岛：中国海洋大学，２０１２．—ＧＡＯＧｕａｎｈｕｉ．Ｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎｏｎｔｗｏｄｉｍｅｎｔｉｏｎａｌｎａｎｏｓｈｅｅｔｓａｎｄｃｏｍｐｏｓｉｔｅｓｓｙｎｔｈｅｓｉｓ［Ｄ］．Ｑｉｎｇｄａｏ：ＯｃｅａｎＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＣｈｉｎａ，２０１２．——ＴＡＨＡＴＩＪＥＲＩＮＡＪ，ＮＡＲＡＹＡＮＡＮＴＮ，ＧＡ０ＧＨ，ｅｔａｌ＿Ｅ—ｌｅｅｔｒｉｃａｌｌｙｉｎｓｕｌａｔｉｎｇｔｈｅｒｍａｌｎａｎｏｏｉｌｓｕｓｉｎｇ２Ｄｆｉｌｌｅｒｓ［Ｊ］．ＡＣＳ—Ｎａｎｏ，２０１２，６（２）：１２１４１２２０．’ＺＨＯＵＫＧ，ＭＡ０ＮＮ，ＷＡＮＧＨＸ，ｅｔａＩＡｍｉｘｅｄ－ｓｏｌｖｅｎｔｓｔｒａｔｅｇｙｆｏｒｅｆｆｉｃｉｅｎｔｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎｏｆｉｎｏｒｇａｎｉｃｇｒａｐｈｅｎｅａｎａｌｏｇｕｅｓ［Ｊ］．ＡｎｇｅｗａｎｄｔｅＣｈｅｍｉｃＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌＥｄｉｔｉｏｎＶｏｒｔｅｘ，２０１１，５Ｏ—（４６）：１０８３９１０８４２．—ＣＡＯＬ，ＥＭＡＭＩＳ，ＬＡＦＤＩＫ．Ｌａｒｇｅ－ｓｃａｌｅｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎｏｆｈｅｘａ—ｇｏｎａｌｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｎａｎｏｓｈｅｅｔｓｉｎｌｉｑｕｉｄｐｈａｓｅ［Ｊ］．ＭａｔｅｒｉａｌｓＥｘ—ｐｒｅｓｓ，２０１４，４（２）：１６５１７１．——ＭＡＲＳＨＫＬ．ＳＯＵＬＩＭＡＮＭ，ＫＡＮＥＲＲＢ．Ｃｏｓｏｌｖｅｎｔｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎａｎｄｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎｏｆｈｅｘａｇｏｎａｌｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅ［Ｊ］．Ｃｈｅｍｉｃａｌ—Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓ，２０１５，５１（１）：１８７１９Ｏ．ＬＩＮＹ，ＷＩＬＵＡＭＳＴＶ，ＸＵＴＢ，ｅｔａ１．Ａｑｕｅｏｕｓｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎｓｏｆｆｅｗ－ｌａｙｅｒｅｄａｎｄｍｏｎｏｌａｙｅｒｅｄｈｅｘａｇｏｎａｌｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｎａｎｏｓｈｅｅｔｓ—ｆｒｏｍｓｏｎｉｃａｔｉｏｎａｓｓｉｓｔｅｄｈｙｄｒｏｌｙｓｉｓ：ｃｒｉｔｉｃａｌｒｏｌｅｏｆｗａｔｅｒ［Ｊ］．—ＪｏｕｒｎａｌｏｆＰｈｙｓｉｃａｌＣｈｅｍｉｓｔｒｙＣ，２０１１，１１５（６）：２６７９２６８５．—ＷＡＮＧＹ，ＳＨＩＺＸ，ＹＩＮＪ．Ｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｎａｎｏｓｈｅｅｔｓ：ｌａｒｇｅｓｃａｌｅｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎｉｎｍｅｔｈａｎｅｓｕｌｆ０ｎｉｃａｃｉｄａｎｄｔｈｅｉｒｃｏｍｐｏｓｉｔｅｓｗｉｔｈｐｏｌｙｂｅｎｚｉｍｉｄａｚｏｌｅ［Ｊ］．ＪｏｕｒｎａｌｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，—２Ｏ１１，２１（３０）：１１３７１１１３７７．ＫＡＲ０ＵＳＩＳＮ．ＴＡＧＭＡＴＡＲＣＨＩＳＮ，ＴＡＳＩＳＤ．Ｃｕｒｒｅｎｔｐｒｏ－ｇｒｅｓｓｏｎｔｈｅｃｈｅｍｉｃａｌｍｏｄｉｆｉｃａｔｉｏｎｏｆｃａｒｂｏｎｎａｎｏｔｕｂｅｓ［Ｊ］．—Ｃｈｅｍｉｃａ１Ｒｅｖｉｅｗｓ，２０１０，１ｌＯ（９）：５３６６５３９７．ＬＩＮＹ，ＷＩＬＬＩＡＭＳＴＶ，Ｃ０ＮＮＥＬＬＪＷ．Ｓｏｌｕｂｌｅ，ｅｘｆｏｌｉａｔｅｄｈｅｘａｇｏｎａｌｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｎａｎｏｓｈｅｅｔｓ［Ｊ］．ＪｏｕｒｎａｌｏｆＰｈｙｓｉｃａｌ—ＣｈｅｍｉｓｔｒｙＬｅｔｔｅｒｓ，２０１０，１（１）：２７７２８３．ＬＩＡＮＧ，ＺＨＡＮＧＸ，ＴＡＮＭ，ｅｔａ１．Ｆａｃｉｌｅｓｙｎｔｈｅｓｉｓｏｆ３Ｄｂ０一ｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｎａｎｏｆｌｏｗｅｒｓｃｏｍｐｏｓｅｄｏｆｖｅｒｔｉｃａｌｌｙａｌｉｇｎｅｄｎａｎｏｆｌａｋｅｓ—ａｎｄｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎｏｆｇｒａｐｈｅｎｅｌｉｋｅＢＮｂｙｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎ［Ｊ］．Ｊｏｕｒｎａｌｏｆ—ＭａｔｅｒｉａｌｓＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，２０１１，２１（２５）：９２０１９２０７．ＤＵＭ，ＬＩＸＬ，ＷＡＮＧＡＺ，ｅｔａ１．ＯＤｅｓｔｅｐｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎａｎｄｌ２８材料工程２０１６年３月Ｅ５２３［５３］Ｅ５４３—ｆｌｕｏｒｉｎａｔｉｏｎｏｆｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｎａｎｏｓｈｅｅｔｓａｎｄａｓｔｕｄｙｏｆｔｈｅｉｒｍａｇｎｅｔｉｃｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓＥＪ］．ＡｎｇｅｗａｎｄｔｅＣｈｅｍｉｅ，２０１４，１２６（１４）：３７１９—３７２３．ＥＲＩＣＫＳＯＮＫＪ，ＧＩＢＢＡＬ，ＳＩＮＩＴＳＫＩＩＡ，ｅｔａ１．Ｌｏｎｇｉｔｕｄｉｎａｌｓｐｌｉｔｔｉｎｇｏｆｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｎａｎｏｔｕｂｅｓｆｏｒｔｈｅｆａｃｉｌｅｓｙｎｔｈｅｓｉｓｏｆｈｉｇｈｑｕａｌｉｔｙｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｎａｎ０ｒ．ｂｂ０ｎｓ［Ｊ］．ＮａｎｏＬｅｔｔｅｒｓ，２０１１，—１１（８）：３２２１３２２６．—ＫＯＳＹＮＫＩＮＤＶ，ＬＵＷ，ＳＩＮＩＴＳＫＩＩＡ，ｅｔａ１．Ｈｉｇｈｌｙｅｏｎｄｕｃｔｉｖｅｇｒａｐｈｅｎｅｎａｎｏｒｉｂｂｏｎｓｂｙｌｏｎｇｉｔｕｄｉｎａｌｓｐｌｉｔｔｉｎｇｏｆｃａｒｂｏｎｎａｎｏｔｕｈｅｓｕｓｉｎｇｐｏｔａｓｓｉｕｍｖａｐｏｒ［Ｊ］．ＡＣＳＮａｎｏ，２０１１，５（２）：—９６８９７４．ＺＥＮＧＺＹ，ＳＵＮＴ，ＺＨＵＪＸ，ｅｔａ１．Ａｎｅｆｆｅｃｔｉｖｅｍｅｔｈｏｄｆｏｒｔｈｅｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎｏｆｆｅｗ－ｌａｙｅｒ－ｔｈｉｃｋｉｎｏｒｇａｎｉｃｎａｎｏｓｈｅｅｔｓ［Ｊ］．Ａｎｇｅｗａｎｄｔｅ—ＣｈｅｍｉｅＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌＥｄｉｔｉｏｎ，２０１２，５１（３６）：９０５２９０５６．［５５］Ｅ５６３ＬＩＸＬ，ＨＡＯＸＰ，ＺＨＡＯＭＷ，ｅｔａ１．ＥｘｆｏｌｉａｔｉｏｎｏｆｈｅｘａｇｏｎａｌｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅｂｙｍｏｌｔｅｎｈｙｄｒｏｘｉｄｅｓＥＪ］．ＡｄｖａｎｃｅｄＭａｔｅｒｉａｌｓ，—２Ｏ１３，２５（１５）：２２００２２０４．ＮＡＧＡ，ＲＡＩＤＯＮＧＩＡＫ，ＨＥＭＢＲＡＭＫ，ｅｔａ１．Ｇｒａｐｈｅｎｅａｎａ－ｌｏｇｕｅｓｏｆＢＮ：ｎｏｖｅｌｓｙｎｔｈｅｓｉｓａｎｄｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓＥＪ］．ＡＣＳＮａｎｏ．—２Ｏ１０，４（３）：１５３９１５４４．基金项目：国家自然科学基金（５１５７４２１２，Ｕ１４０３１９５）————收稿日期：２０１４１０１７；修订日期：２０１５１０３０通讯作者：李平（１９８ｏ～），男，副研究员，博士，研究方向为硼材料制备，联系地址：北京市海淀区中关村北二条１号中国科学院过程工程研究所展览楼２１３（１００１９０），Ｅ－ｍａｉｌ：ｌｉｐｉｎｇｇｎｉｐｉｌ＠ｉｐｅ．ａｅ．ｃｎ