等离子显示器滤光保护膜的研究进展.pdf

等离子显示器滤光保护膜的研究进展９３等离子显示器滤光保护膜的研究进展ＲｅｓｅａｒｃｈＰｒｏｇｒｅｓｓｏｆＰｌａｓｍａＤｉｓｐｌａｙＰａｎｅｌＦｉｌｔｅｒ张晓雯，厉蕾，颜悦（北京航空材料研究院，北京１０００９５）—ＺＨＡＮＧＸｉａｏｗｅｎ，ＬＩＬｅｉ，ＹＡＮＹｕｅ（ＢｅｉｊｉｎｇＩｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＡｅｒｏｎａｕｔｉｃａｌＭａｔｅｒｉａｌｓ，Ｂｅｉｊｉｎｇ１０００９５，Ｃｈｉｎａ）摘要：本文介绍了等离子显示器的优缺点，并对其显示过程中所需的滤光保护膜进行了分析。分别对电磁屏蔽、近红外吸收、橘黄调色以及防反射等功能膜的研究进展进行了综述。重点阐述了各功能薄膜所用材料与薄膜制备方法在国内外的研究与应用。关键词：等离子显示器；电磁屏蔽；近红外吸收；橘黄调色；防反射中图分类号：ＴＭ９３文献标识码：Ａ——文章编号：１００１４３８１（２０１１）０８００９３０６Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ｔｈｅａｄｖａｎｔａｇｅｓａｎｄｄｉｓａｄｖａｎｔａｇｅｓｏｆｔｈｅｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌ（ＰＤＰ）ｗｅｒｅｒｅｖｉｅｗｅｄ，ａｎｄｔｈｅ—ｒｅｓｅａｒｃｈｐｒｏｃｅｓｓｏｆＰＤＰｆｉｌｔｅｒｗａｓａｎａｌｙｚｅｄ．Ｔｈｅｆｕｎｃｔｉｏｎｓｏｆｔｈｅｆｉｌｔｅｒｉｎｃｌｕｄｉｎｇｅｌｃｔｒｏｍａｇｎｅｔｉｃｉｎｔｅｒ——ｆｅｒｅｎｃｅ（ＥＭＩ）ｓｈｉｅｌｄｉｎｇ，ｎｅａｒｉｎｆｒａｒｅｄ（ＮＩＲ）ｂｌｏｃｋｉｎｇ，ｎｅｏｎｃｕｔ（Ｎｅｃｕｔ）ａｎｄａｎｔｉｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ（ＡＲ）—ｗｅｒｅｉｎｔｒｏｄｕｃｅｄｒｅｓｐｅｃｔｉｖｅｌｙ．Ｔｈｅｓｔｕｄｙａｎｄａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｆｏｒｔｈｅｍａｔｅｒｉａｌｓａｎｄｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎｏｆｔｈｅｆｕｎｃｔｉｏｎａｌｉｚｅｄｆｉｌｍｓｗｅｒｅｃａｒｒｉｅｄｏｎ．——Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：ＰＤＰｆｉｌｔｅｒ；ＥＭＩｓｈｉｅｌｄｉｎｇ；ＮＩＲｂｌｏｃｋｉｎｇ；Ｎｅｃｕｔ；ａｎｔｉｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ等离子显示器具有很大的显示面积和容量，对比度高、彩色还原特性好、图像显示逼真和画质优良等优点，因此等离子显示器自问世以来就引起了人们的广泛关注，近几年也逐渐成为电视机行业显示器的热点研究对象之一＿】Ｊ。但是等离子显示器也有其不可避免的缺点＿３］。由于等离子显示器的电容性负载较差，在等离子显示器充电与放电过程中会产生过大的冲击位移电流，因此相对于传统的显示器，等离子显示器就会产生电磁波，不仅对人体健康有损害，同时会对其他设备产生电磁干扰，并有大量的能量损失ｌ５；另外，等离子显示器填充的氙气与氖气受到真空紫外线激发时会发出相应的近红外光（ＮＩＲ）与氖（Ｎｅ）黄光。ＮＩＲ会对遥控器以及其他应用红外线的部件产生影响甚至导致失灵；氖原子在被真空紫外线激发再回到基态的过程中会在５９０ｎｍ左右处产生氖黄光，影响等离子显示器的色彩平衡，造成画面失真。最初解决上述问题的办法是在无机玻璃上沉积功能层，然后将无机玻璃安置在等离子显示器前面，以起到对等离子显示器滤光保护的作用。但是这样增加了成本，明显增大了等离子显示器的质量与体积，对生产运输等带来不利影响。近几年在柔性聚合物透明基底上沉积多层功能薄膜制备ＰＤＰ用滤光保护膜已经成为研究的热点，该功能薄膜在满足滤光保护要求的同时，明显减轻了ＰＤＰ的质量并降低了成本。目前多家公司在从事彩色等离子体显示器滤光膜的研制方面已取得相当的成就并已经实现批“量生产Ｅ。ＰＤＰ用滤光保护膜在设计上要求尽可能对红、蓝、绿等可见光有较高透光率的同时，能够屏蔽电磁波干扰（ＥＭＩ），并有效吸收５９０ｎｍ处的Ｎｅ黄光，同时对８００１２００ｎｍ的近红外线有良好吸收效果。这样将有效提高ＰＤＰ显示器分辨率，改善清晰度以及色纯度。ＰＤＰ滤光保护膜一般都是多种功能的复合膜，是集近红外线吸收、橘黄调色、高增透以及电磁屏蔽的多合一功能膜¨１。这对于降低成本、简化工艺等方面将具有很优异的开发应用潜力。本文对近几年国内外ＰＤＰ滤光保护膜的开发应用技术与材料应用展开综ｉ术Ｅ１ＰＤＰ滤光保护膜的结构ＰＤＰ滤光保护膜的结构一般包括上保护层，胶黏剂层，透明高分子薄膜，下保护层。保护层，能够保护滤光膜在使用前不受伤害；胶黏剂层，内含近红外吸收染料以及选择性波长吸收染料（氖黄光吸收），同时起等离子显示器滤光保护膜的研究进展９５３近红外（ＮＩＲ）吸收膜与氖黄光吸收（Ｎｅ－ｃｕｔ）膜—根据文献［３４３６］专利介绍，能够起到ＮＩＲ吸收与Ｎｅ－ｃｕｔ吸收作用的主要是靠能吸收８００１２００ｎｍ波长的近红外线以及在５９０ｎｍ附近有较窄吸收峰的染料来实现的。而分散这两种染料的介质，同时又起到与等离子显示器玻璃基底粘接作用的物质，是压敏胶黏剂。３．１ＮＩＲ吸收染料用于防近红外线（ＮＩＲ）的染料分为两类。一类为—二亚铵翁盐吸光染料（ｄｉｉｍｍｏｎｉｕｍｂａｓｅｄｄｙｅ），其基本结构式如图３所示［３。Ｒ１～Ｒ８为取代基，取代基不同，氨基的吸电子能力也会有所差别，于是会造成染’料的最大吸收波长的改变。一Ｎ（Ｒ，Ｒ）的吸电子能力越强，二亚铵翁盐系吸光染料的最大吸收波长会越小，反之会越大。不同取代基染料的最大吸收波长见表１。以一ＮＥ（ＣＨ）。ＣＨ。］。基团为基准，取代基改变会造成最大吸收峰的改变，改变值的大小见表１。由于单一一种染料的吸收峰宽度可能不能完全吸收ＰＤＰ显示过程中产生的近红外光，因此，需要一种甚至多种其他吸收近红外线染料配合使用，以达到对８００１２００ｎｍ的近红外光有良好吸收作用的目的。Ｒ５图３二亚铵翁盐吸光染料的结构式—Ｆｉｇ．３Ｃｈｅｍｉｃａｌｆｏｒｍｕｌａｏｆｔｈｅｄｉｉｍｍｏｎｉｕｍｂａｓｅｄｄｙｅ另一类常被用来作为近红外吸收的染料是酞菁以及萘酞菁类的金属配合物染料。其结构式如图４所示。酞菁、萘酞菁及其金属络合物作为一类功能性染料，近年来引起了人们的极大兴趣，特别是在材料科学中，越来越表现出巨大的潜在应用价值。酞菁络合物已被广泛用于太阳能电池、静电复印、化学传感器、电致发光器件、光记录介质和非线性光学材料等领域。由于其特殊的络合结构，酞菁以及萘酞菁类的金属络合物染料能够有效吸收近红外线＿３。其中Ｒ为不同或相同的取代基。Ｍ一般是Ｎｉ，Ｐｔ，Ｐｄ或Ｃｕ等重金属中的一种。表１不同氨基的染料最大吸收波长变化表—Ｔａｂｌｅ１Ｔｈｅａｂｓｏｒｂａｎｅｅｐｅａｋｏｆｔｈｅｄｙｅｗｉｔｈｄｉｆｆｅｒｅｎｔａｍｉｎｏｇｒｏｕｐｓ图４酞菁（ａ）以及萘酞菁（ｂ）结构式Ｆｉｇ．４Ｃｈｅｍｉｃａｌｆｏｒｍｕｌａｏｆｐｈｔｈａｌ０ｃｙａｎｉｎ（ａ）ａｎｄｎａｐｈｔｈａｌ０ｃｙａｎｉｎｅ（ｂ）ｄｙｅｓ３．２Ｎｅ－ｃｕｔ染料—Ｎｅｃｕｔ染料要求在５７０￣６００ｎｍ之间有最大吸收峰且具有较窄的半峰宽，结构上一般是具有分子间或分子内的金属络合物结构。用于氖黄光吸收的染料主要包括氰蓝类染料以及四氮杂卟啉类染料。具有代表性的几种氰蓝类染料的结构式如图５所示［４１，４２］。Ｒ应用较为广泛的是四氮杂卟啉的金属配合物染料，四氮杂卟啉是一类具有紧稠的大环结构和可离域化的共轭丌电子体系的化合物，具有优异的电子功能和特殊的物理性能，一直受到研究者的青睐。卜。ＣＨＥＮＺＭ［４明等，ＢＩＬＧＩＮＡ＿４等在透明再合成与研究新型的四氮杂卟啉金属配合物染料方面做了很大的９６材料工程／２０１１年８期Ⅲ图５氰蓝类染料的结构式［４１］—Ｆｉｇ．５Ｃｈｅｍｉｃａｌｆｏｒｍｕｌａｏｆｔｈｅｃｙａｎｉｎｂａｓｅｄｄｙｅｓ［４１，４２］工作，并测试了其选择性吸收性能，不同的金属离子以及不同的取代基会造成四氮杂卟啉有不同的Ｑ带最—大吸收峰。典型的四氮杂卟啉类金属络合物Ｎｅｃｕｔ染料的结构通式如图６所示，其中Ｍ是二价、三价或—四价金属配合物。一般Ｎｅｃｕｔ染料的含量为分散介质即压敏胶黏剂的０．０１～５％（质量分数）。若含量低于０．０１，选择性光学吸收功能变弱，并会因此导致ＰＤＰ显示过程中的色纯度变差，而当含量超过５时，色平衡度以及滤光膜的透光度也会变差。Ｒ图６四氮杂卟啉金属络合物结构通式—Ｆｉｇ．６Ｃｈｅｍｉｃａｌｆｏｒｍｕｌａｏｆｔｈｅｍｅｔａｌｃｏｍｐｌｅｘ—ｐｈｏｒｐｈｙｒｉｎｂａｓｅｄｄｙｅ３．３胶黏剂胶黏剂是连接滤光保护膜与等离子显示器玻璃面板的关键层，其各项性能十分重要。常用于ＰＤＰ滤光保护膜的压敏胶黏剂多为丙烯酸酯共聚物压敏胶ｌ７，并经适当的交联剂进行紫外光交联或热交联后制备而成。ＣＨＯＩＨＳｌ＿４＆］以及ＭｏｒｉｗａｋｉＫ＿４等利用这种将选择性吸收染料混入胶黏剂的方法制备而成的胶膜的紫外一可见吸收光谱如图７所示，光学性能参数如表２所示。４抗反射膜（ＡＲ）抗反射膜（ＡＲ），又称增透膜，是应用十分广泛的一类光学薄膜，不仅仅在ＰＤＰ显示器中有很重要８磊＝皇ｇ蠹Ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ／ｎｍ图７胶膜的紫外可见吸收光谱图Ｆｉｇ．７ＵＶｖｉｓｓｐｅｃｔｒｕｍｏｆｔｈｅＰＤＰｆｉｌｔｅｒ表２ＰＤＰ保护膜在可见光波段透光率Ｔａｂｌｅ２ＴｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅｏｆｔｈｅＰＤＰｆｉｌｔｅｒｉｎｖｉｓｉｂｌｅｌｉｇｈｔｒｅｇｉｏｎ的作用，在其他显示器件中的应用也是必不可少的。ＡＲ膜要具有很高的可见光透光率，一般超过９Ｏ，反射系数不超过１．４５，对可见光的反射率不超过１。ＡＲ膜一般是在一层透明的ＰＥＴ基底（反射系数１．６５）上沉积几层硬涂层与几层反射率不同的减反射层而制成，另外，可能需要制备一层低表面能层，有利于’薄膜表面的防污。抗反射膜的结构如图８所示。钉］。Ｌｏｗｓｕｒｆａｃｅｅｎｅｒｇｙｌａｙｅｒ３ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔｏｘｉｄｅ２ｎａｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔｏｘｉｄｅ１ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔｏｘｉｄｅ…Ｃ＇ａｒ…ｉｍｎ＂ｌ…ａｙｅｒＨａｒｄｃｏａｔｉｎｇｌａｙｅｒ图８抗反射膜的结构示意图—Ｆｉｇ．８Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｏｆｔｈｅａｎｔｉｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎｆｉｌｍｓ等离子显示器滤光保护膜的研究进展９７对于ＡＲ膜的研究与应用也引起了各国科研工作者的关注。很多金属氧化物薄膜采用各种沉积方法被用于柔性基底上制备ＡＲ膜，如ＡＴＯ，ＩＴＯ，ＭｇＦ，ＣｅＯ，ＺｎＯ，ｓｉＯ等，其他聚合物薄膜也可能被用来作为辅助层起到防反射作用ｌ＿５。Ｊ．Ｙｉ等用射频磁控溅射与真空蒸镀的方法依次沉积了ＭｇＦ。与ＣｅＯ双层薄膜，由于ＣｅＯ。薄膜具有较高的反射率（ｎ一≈２．３～２．４），而ＭｇＦ具有较低的反射率（１．４），两者相配合能够起到良好的防反射作用，得到的薄膜在４００～１１００ｎｍ的反射率低至１．８７。另外，由于ＩＴＯ以及ＡＴＯ等金属掺杂氧化物本身具有导电性与较高的反射率，如果用它们制备薄膜，不仅能够起到防反射作用，还能够起到电磁屏蔽的作用。如Ｊｉｎ－ＹｅｏｌＫｉｒｎ［］等在ＰＭＭＡ基底与三醋酸纤维素基底上分别制备了ＩＴＯ薄膜与热固化氟化烷氧基硅烷树脂薄膜，以ＩＴＯ薄膜作为高反射率层（，一２：０），而氟化烷氧基硅烷树脂薄膜作为低反射率层（一１：３５），得到反射率小于０．８的薄膜，由于氟化物的存在使得薄膜具有良好的抗静电性能，而ＩＴＯ具有电磁屏蔽性能，这一薄膜体系在ＰＤＰ滤光保护膜领域具有很好的应用价值。５结束语ＰＤＰ以其大屏幕，高清晰度，高亮度，高对比度，完美的动画再现性，超薄等优点，已越来越快地走入千家万户。但是伴随等离子显示过程产生的电磁干扰、近红外线，由于氖黄光的产生而造成色度不纯以及防反射增透等问题，仍需在尽量不大幅增加成本并简化工艺的基础上，改善等离子显示器的显示效果。因此，等离子显示器滤光保护膜的研究变得尤为重要。这种等离子显示器滤光保护膜的研究与应用在日本，韩国已经比较成熟，而国内对各项功能的研究与应用也有报道，但基本还没有进行功能复合与工业化生产。在充分开发利用新型材料和制作工艺的基础上，进一步研发屏蔽效能更佳、能更好地改善画面质量的等离子显示器滤光保护膜势在必行。［１］［２７［３］［４］参考文献ＢＯＡＲＤＭＡＮＣＭ，ＤＥＳＣＨＡＭＰＳＪ．Ｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌｓｈａｖｅｃｏｍｅｏｆａｇｅ［Ｊ］．Ｄｉｓｐｌａｙｓ，１９８２，３（３）：１３５１４６．ＳＨＩＮＡＤＡＴ．等离子体显示开启显示世界之梦［Ｊ］．现代显示，—２００４，４３（３）：６１２．彭国贤．彩色等离子体显示板的彩色重现［Ｊ］．光电子技术，２０００，—２０（４）：２６９２７４．彭国贤．关于彩色等离子体显示板若干ｌＵ￣ＮＭＮ讨［Ｊ］．光电子技—术，１９９９，１９（４）：２８８２９３．［５］ＨＡＮＳＫ，ＭＯＯＮＧＷ，ＹＯＵＮＭＪ．Ｈｉｇｈｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅｓｕｓｔａｉｎ—‘——ｉｎｇｄｒｉｖｅｒｆｏｒｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌｅｍｐｌｏｙｉｎｇｇａｓｄｉｓｃｈａｒｇｅｃｕｒｒｅｎｔｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎｍｅｔｈｏｄ［Ｊ］．ＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓＬｅｔｔｅｒｓ，２００４，４０（８）：—４７３４７５．［６］ＫＩＯＰＰＥＩＡ，ＭＥＹＥＲＢ，ＴＲＵＢＥＪ．Ｉｎｆｌｕｅｎｃｅｏｆｓｕｂｓｔｒａｔｅｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅａｎｄｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇａｔｍｏｓｐｈｅｒｅｏｎｅｌｅｃｔｒｉｃａｌａｎｄｏｐｔｉｃａｌｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆｄｏｕｂｌｅｓｉｌｖｅｒｌａｙｅｒｓｙｓｔｅｍｓ［Ｊ］．ＴｈｉｎＳｏｌｉｄＦｉｌｍｓ，２００ｌ，３９２（２）：３１ｌ一３１４．［７２ＨＩＷＡＴＡＳＨＩＹ，ＹＡＭＡｓＨ１ＴＡＹ．Ａｄｈｅｓｉｖｅｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎｆｏｒｏｐｔｉｃａｌｆｉｌｔｅｒ，ｏｐｔｉｃａｌｆｉｌｔｅｒａｎｄｄｉｓｐｌａｙｄｅｖｉｃｅ［Ｐ］．ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：—０１１６１３２．２００９０５０７．［８］ＬＥＥＹＫ，ＰＡＲＫＳＨ，ＫＩＭＪＤ，ｅｔａ１．Ｆｉｌｍｆｏｒｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙ—ｆｉｌｔｅｒａｎｄｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｆｉｈｅｒｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇｔｈｅｓａｍｅ［Ｐ］．ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：００４２５３１，２００５－０１－２４．［９］ＰＡＲＫＳＨ，ＬＥＥＹＫ．ＦｉｌｍｆｏｒＰＤＰｆｉｌｔｅｒ，ＰＤＰｆｉｌｔｅｒｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇｔｈｅｓａｍｅａｎｄｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌｐｒｏｄｕｃｅｄｂｙｕｓｉｎｇｔｈｅＰＤＰ—ｆｉｌｔｅｒ［Ｐ］．ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：００５１５８６，２００６０３０９．—［１Ｏ］ＰＡＲＫＳＨ，ＬＥＥＳＲ，ＫＩＭＪＤ，ｅｔａ１．Ｎｅａｒｉｎｆｒａｒｅｄｒａｙａｂｓｏｒｐｔｉｏｎｆｉｌｍｆｏｒｆｉｌｔｅｒｏｆｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌ［Ｐ］．ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：００８８１０９，２００７－０４１９．［１１］ＫＩＭＫＫ，ＣＨＡＨＲ，ＫＩＭＹＳ，ｅｔａ１．Ｆｒｏｎｔｆｉｌｔｅｒｉｎｐｌａｓｍａ——ｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌ［Ｐ］．ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：７１９３７７９，２００７０３２０．—［１２］ＳＥＯＪＹ，ＳＩＮＤＫ，ＯＨＳＹ，ｅｔａ１．Ｏｐｔｉｃａｌｆｉｌｔｅｒｆｏｒｄｉｓｐｌａｙａｐ—ｐａｒａｔｕｓ［Ｐ］．ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：０２５９４７８，２００８１Ｏ一２３．［１３］ＭＩＴＯＭＯＨ．Ｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌｉｎｃｌｕｄｉｎｇｃｏｌｏｒｆｉｌｔｅｒｓ［Ｐ］．——ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：５８３８１０５，１９９８１１１７．［１４］ＰＡＲＫＹ．Ｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌａｐｐａｒａｔｕｓ［Ｐ］．ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：—０１３８９２４，２００６－０７２９．’［１５］ＤＨＡＥＮＥＰ，ＧＡＲＲＥＴＴＰＤ．Ｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌｆｉｌｔｅｒｓ—［Ｐ］．ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：０２３９２５１，２００４１１一Ｏ２．［１６］ＰＡＲＫＹ．Ｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌ［Ｐ］．ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：０１１９２６９，２００６０６０８．Ｅ１７］崔渊，李晓华，郑姚生．ＰＤＰ电磁屏蔽膜的特性测试及其研究［Ｊ］．真空科学与技术学报，２００９，２９（４）：３６９３７４．［１８］ＫＩＭＫＫ，ＣＨＡＨＲ，ＫＩＭＹＳ，ｅｔａ１．ＥＭＩｓｈｉｅｌｄｉｎｇｆｉｌｍｆｏｒａ—ｆｌａｔｐａｎｅｌｄｉｓｐｌａｙｄｅｖｉｃｅｉｎｃｌｕｄｉｎｇａｍｅｓｈｆｒａｍｅｏｆｔｗｏｌａｙｅｒｅｄ——ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ［Ｐ］．ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：７１１９８５８，２００６１０１０．［１９］ＨＡＮＥＧ，ＫＩＭＥＡ，ＯＨＫＷ．Ｅ１ｅｃｔｒｏｍａｇｎｅｔｉｃｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ—ｓｈｉｅｌｄｉｎｇｅｆｆｅｃｔｉｖｅｎｅｓｓｏｆｅｌｅｃｔｒｏｌｅｓｓＣｕｐｌａｔｅｄＰＥＴｆａｂｒｉｃｓ［Ｊ］．—ＳｙｎｔｈｅｔｉｃＭｅｔａｌｓ，２００１，１２３（３）：４６９４７６．Ｌ２０］ＩＩＮＧＬＥＰＪ，ＤＩＥＴＲＩＣＨＡ，ＬＵＹＬ，ｅｔａ１．ＥＭＩｆｉｌｔｅｒｆｏｒ—ｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌ［Ｐ］．ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：７７１３６３３，２０１００５１１．—［２１］ＫＩＭＷＭ，ＫＵＷＭ，ＬＥＥＤＹ，ｅｔａ１．Ｔｈｅｅｌｅｃｔｒｏｍａｇｎｅｔｉｃｉｎ——ｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅｓｈｉｅｌｄｉｎｇｅｆｆｅｃｔｏｆｉｎｄｉｕｍ－ｚｉｎｃｏｘｉｄｅ／ｓｉｌｖｅｒａｌｌｏｙｍｕｌｔｉ．—１ａｙｅｒｅｄｔｈｉｎｆｉｌｍｓ［Ｊ］．ＴｈｉｎＳｏｌｉｄＦｉｌｍｓ，２００５，４７３（２）：３１５３２０．—［２２］ＹＡＭＡＤＡＴ，ＭＯＲＩＺＡＮＥＴ，ＡＲＩＭＩＴＳＵＴ，ｅｔａ１．Ａｐｐｌｉｃａ——ｔｉｏｎｏｆｌｏｗｒｅｓｉｓｔｉｖｉｔｙＧａｄｏｐｅｄＺｎＯｆｉｌｍｓｔｏｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔｅｌｅｃｔｒｏ“ｍａｇｎｅｔｉｃｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅｓｈｉｅｌｄｉｎｇｍａｔｅｒｉａｌＥＪ］．ＴｈｉｎＳｏｌｉｄＦｍｓ．２００８，５１７（３）：１０２７～１Ｏ３１．［２３］ＫＬＯＰＰＥＬＡ，ＭＥＹＥＲＢ，ＴＲＵＢＥＪ．ＩｎｆｌｕｅｎｃｅｏｆｓｕｂｓｔｒａｔｅｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅａｎｄｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇａｔｍｏｓｐｈｅｒｅｏｎｅｌｅｃｔｒｉｃａｌａｎｄｏｐｔｉｃａＩｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆｄｏｕｂｌｅｓｉｌｖｅｒｌａｙｅｒｓｙｓｔｅｍｓ［Ｊ］．ＴｈｉｎＳｏｌｉｄＦｉｌｍｓ，９８材料工程／２０１１年８期—２００１，３９２（２）：３１１３１４．—［２４３ＢＥＴＺＵ，ＯＬＳＳＯＮＭＫ，ＭＡＲＴＨＹＪ，ｅｔａ１．Ｔｈｉｎｆｉｌｍｓｅｎｇｉ—ｎｅｅｒｉｎｇｏｆｉｎｄｉｕｍｔｉｎｏｘｉｄｅ：ｌａｒｇｅａｒｅａｆｌａｔｐａｎｅｌｄｉｓｐｌａｙｓａｐｐｌｉｃａ—ｔｉｏｎ［－Ｊ］．Ｓｕｒｆａｃｅ＆ＣｏａｔｉｎｇｓＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，２００６，２００（２０２１）：—５７５１５７５９．［２５］ＧＥＥＴＨＡＳ，ＳＡＴＨＥＥＳＨＫＫＫ，ＲＡＯＣＲＫ，ｅｔａ１．ＥＭＩ——ｓｈｉｅｌｄｉｎｇ：ｍｅｔｈｏｄｓａｎｄｍａｔｅｒｉａｌｓａｒｅｖｉｅｗ［Ｊ］．ＪｏｕｒｎａｌｏｆＡｐ—ｐｌｉｅｄＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉｅｎｃｅ，２００９，１１２（４）：２０７３２０８６．［ｚ６３ＬＥＥＣＪ，ＬＩＮＨＫ，ＳＵＮＡＳＹ，ｅｔａ１．Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｄｉｆｆｅｒｅｎｃｅ—ｂｅｔｗｅｅｎＩＴＯ／ＺｒＣｕａｎｄＩＴＯ／Ａｇｂｉｌａｙｅｒｆｉｌｍｓａｓｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ—ｅｌｅｃｔｒｏｄｅｓｄｅｐｏｓｉｔｅｄｏｎＰＥＴｓｕｂｓｔｒａｔｅ［Ｊ］．ＡｐｐｌｉｅｄＳｕｒｆａｃｅＳｃｉ—ｅｎｃｅ，２Ｏ１０。２５７（１）：２３９２４３．［２７］ＣＨＯＳＷ，ＪＥＯＮＧＪＡ，ＢＡＥＪＨ，ｅｔａ１．Ｈｉｇｈｌｙｆｌｅｘｉｂｌｅ，—ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ，ａｎｄｌｏｗｒｅｓｉｓｔａｎｃｅｉｎｄｉｕｍｚｉｎｃｏｘｉｄｅＡｇ－ｉｎｄｉｕｍｚｉｎｃｏｘｉｄｅｍｕｌｔｉｌａｙｅｒａｎｏｄｅｏｎｐ０１ｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅｓｕｂｓｔｒａｔｅ—ｆｏｒｆｌｅｘｉｂｌｅｏｒｇａｎｉｃｌｉｇｈｔｅｍｉｔｔｉｎｇｄｉｏｄｅｓ［Ｊ］．ＴｈｉｎＳｏｌｉｄＦｉｌｍｓ，—２００８，５１６（２１）：７８８１７８８５．［２８］吴玉韬，翁小龙，邓龙江．低温沉积ＩＴＯ膜的透光率及电磁屏蔽—特性的研究ＦＪ］．真空科学与技术学报，２００６，２６（５）：３７２３７６．［２９３郝雷，刁训刚，胡小草，等．柔性衬底ＩＴＯ薄膜的制备及其光电—性能研究［Ｊ］．真空科学与技术学报，２００８，２８（３）：２５６２６０．—［３Ｏ］ＫＩＭＷＭ，ＫＵＤＹ，ＬＥＥＩＫ，ｅｔａ１．Ｔｈｅｅｌｅｃｔｒｏｍａｇｎｅｔｉｃｉｎ—ｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅｓｈｉｅｌｄｉｎｇｅｆｆｅｃｔｏｆｉｎｄｉｕｍ－ｚｉｎｃｏｘｉｄｅ／ｓｉｌｖｅｒａｌｌｏｙｍｕｌｔｉ—ｌａｙｅｒｅｄｔｈｉｎｆｉ１ｍｓ［Ｊ］．ＴｈｉｎＳｏｌｉｄＦｉｌｍｓ，２００５，４７３（２）：３１５３２０．［３１］Ｙｕｘｚ，ＳＨＥＮｚＧ．ＴｈｅｅｌｅｃｔｒｏｍａｇｎｅｔｉｃｓｈｉｅｌｄｉｎｇｏｆＮｉｆｉｌｍｓ—ｄｅｐｏｓｉｔｅｄｏｎｃｅｎｏｓｐｈｅｒｅｐａｒｔｉｃｌｅｓｂｙｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇｍｅｔｈｏｄＥＪ］．ＪｏｕｒｎａｌｏｆＭａｇｎｅｔｉｓｍａｎｄＭａｇｎｅｔｉｃＭａｔｅｒｉａｌｓ，２００９，３２１—（１８）：２８９０２８９５．［３２］Ｙｕｘｚ，ＳＨＥＮｚＧ，ＣＡＩＣＪ．Ｍｉｌｌｉｍｅｔｅｒｗａｖｅｅｌｅｃｔｒｏｍａｇｎｅｔｉｃｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅｓｈｉｅｌｄｉｎｇｂｙｃｏａｔｉｎｇｅｘｐａｎｄｅｄｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅｐａｒｔｉｃｌｅｓｗｉｔｈａｃｏｐｐｅｒｆｉｌｍｕｓｉｎｇｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ［Ｊ］．Ｖａｃｕｕｍ，—２００９，８３（１２）：１４３８１４４１．［３３］朱超，官文超，官文杰，等．激光沉积法制备近红外高屏蔽性能透—明薄膜［Ｊ］．表面技术，２００６，３５（４）：７５７７．—［３４］ＷＥＮＺＲＰ．ＯｒａｎｇｅａｎｄＮＩＲａｂｓｏｒｂｉｎｇｏｐｔｉｃａｌａｄｈｅｓｉｖｅｓｆｏｒ——ｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｓ［Ｐ３．ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：０２８０３４２，２００５１１２２．［３５］ＭＡＲＵＴＳＵＫＡＴ．Ｎｅａｒｉｎｆａｒｅｄ（ＮＩＲ）ａｂｓｏｒｂｉｎｇｍａｔｅｒｉａｌａｎｄｐｒｏｃｅｓｓｆｏｒｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎｔｈｅｒｅｏｆ［Ｐ］．ＥｕｒｏｐｅＰａｔｅｎｔ：１２４１４８９，——２００２０８０３．［３６］ＫＵＷＡＢＡＲＡＳ．Ｎｅａｒｉｎｆｒａｒｅｄａｂｓｏｒｐｔｉｏｎｍａｔｅｒｉａｌ［Ｐ］．ＵＳＡ——Ｐａｔｅｎｔ：６７７５０５９，２００４０８１０．—ｒ３７］ＰＡＲＫＳＨ，ＬＥＥＳＲ，ＫＩＭＪＤ，ｅｔａ１．Ｎｅａｒｉｎｆｒａｒｅｄｒａｙａｂｓｏｒｐｔｉｏｎｆｉｌｍｆｏｒｆｉｌｔｅｒｏｆｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌ［Ｐ］．ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：—００８８１０９，２００７０４－１９．ｒ３８］ＦＡＢＩＡＮＪ，ＮＡＫＡＺＵＭＩＨ，ＭＡＴＳＵＯＫＡＭ．Ｎｅａｒ－ｉｎｆｒａｒｅｄ—ａｂｓｏｒｂｉｎｇｄｙｅｓ［Ｊ］．ＣｈｅｍＲｅｖ，１９９２，９２（６）：１１９７１２２６．［３９］何为，马春雨，程传辉，等．２－四一（２一异丙基一５一甲基苯氧基）酞菁铜的合成、光特性及电化学性质［Ｊ］．吉林大学学报（理学版），—２００８，４６（４）：７６９７７３．［４ｏ３于书坤，夏道成，高强，等．菁氧钛薄膜光学常数的测量研究［Ｊ］・光电子・激光，２００８，１９（９）：１２１０－－１２１３．ｒ４１］ＣＨＡＨＲ，ＳＯＨＮＨＪ，ＭＯＯＮＪＫ，ｅｔａ１．Ｆｉｌｔｅｒａｎｄｐｌａｓｍａ——ｄｉｓｐｌａｙｄｅｖｉｃｅｔｈｅｒｅｏｆ［Ｐ］．ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：００２６９０９，２００９０１２９．［４２］ＹＡＭＡＤＡＴ，ＮＡＫＡＭＵＲＡＴ，ＨＡＲＡＤＡＴ，ｅｔａ１．Ｏｐｔｉｃａｌｆｉｌｔｅｒｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔｓｕｐｐｏｒｔａｎｄｆｉｌｔｅｒｌａｙｅｒｈａｖｉｎｇｔｗｏ—ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎｍａｘｉｍｕｍｓ［Ｐ］．ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：６１５７５０４，２０００１２－０５．［４３］陈志敏，吴谊群，左霞，等．四叔丁基四氮杂卟啉配合物的合成、热稳定性及光限幅特性研究ｌ－Ｊ］．无机化学学报，２００６，２２（１）：４７—５２．１，４４］ＣＨＯＫＣ，ＫＩＭＤＹ，ＰＡＲＫＣＨ，ｅｔａ１．Ｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌ——ｆｉｌｔｅｒ［Ｐ］．ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：０１６０１８６，２００４０８１９．—［４５］ＳＴＵＺＨＩＮＰＡ，ＢＡＵＥＲＥＭ，ＥＲＣＯＩＡＮＩＣ．Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｈｉａｄｉ—ａｚｏｌｅ）ｐｏｒｐｈｙｒａｚｉｎｅｓ．１．ｓｙｎｔｈｅｓｅｓａｎｄｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｈｉａｄｉａｚｏｌｅ）ｐｏｒｐｈｙｒａｚｉｎｅａｎｄｉｔｓｍａｇｎｅｓｉｕｍａｎｄｃｏｐｐｅｒｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ—［Ｊ］．ＩｎｏｒｇＣｈｅｍ，１９９８，３７（７）：１５３３１５３９．—［４６］ＣＨＥＮＺＭ，ｗｕＹＱ，ＺＵＯＸ．Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｉｃｐｒｏｐ—ｅｒｔｉｅｓａｎｄｔｈｅｒｍａｌｓｔａｂｉｌｉｔｙｏｆｍｅｔａｌ（ＩＩ）ｔｅｔｒａａｚａｐ０ｒｐｈｙｒｉｎｃｏｍ—ｐｌｅｘｅｓｗｉｔｈｔｗｏｓｔｒｏｎｇｗａｖｅｌｅｎｇｔｈａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ［Ｊ］．ＤｙｅｓａｎｄＰｉｇ—ｍｅｎｔｓ，２００７，７３（２）：２４５２５Ｏ．—１－４７３ＢＩＬＧＩＮＡ，ＥＲＴＥＭＢＢ，ＧＯＫＹ．Ｎｏｖｅｌｐｏｒｐｈｙｒａｚｉｎｅｓｃｏｎｔａｉｎｉｎｇｐｅｒｉｐｈｅｒａｌｌｙｆｕｎｃｔｉｏｎａｌｉｚｅｄｍａｃｒｏｃｙｃｌｉｃ（ＮｚＯｚ，Ｎ２Ｓ２）ｕｎｉｔｓ：Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓａｎｄｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ［Ｊ］．ＤｙｅｓａｎｄＰｉｇｍｅｎｔｓ，—２００９，８０（１）：１８７１９３．—［４８］ＣＨＯＩＨＳ，ＰＡＲＫＳＨ，ＬＥＥＹＫ，ｅｔａ１．Ａｄｈｅｓｉｖｅｆｉｌｍｆｕｎｃ—ｔｉｏｎａｌｉｚｉｎｇｃｏｌｏｒｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎａｎｄｎｅａｒｉｎｆｒａｒｅｄｒａｙ（ＮＩＲ）ｂｌｏｃ—ｋｉｎｇａｎｄｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌｆｉｌｔｅｒｕｓｉｎｇｔｈｅｓａｍｅ［Ｐ］．ＵＳＡＰａ—ｔｅｎｔ：０２６４４９９，２００７１１－１５．［４９］ＴＥＲＵＩＨ，ＭＯＲＩＷＡＫＩＫ．ＦｉｌｔｅｒｆｏｒｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅＩ［Ｐ￣．—ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：７０７１６０２，２００６０７－０４．ｒ６ｏ］ｏＫＡｚＡＫＩＭ，ＨＡＲＡＤＡＴ，ＹＡｓＵＴ．Ａｎｔｉ－ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎｆｉｌｍａｎｄ——ｐｌａｓｍａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌ［Ｐ］．ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：５９４５２０９，１９９９０８３１．—［５１］ＯＨＩＳＨＩＫ，ＭＵＲＡＴＡＣ．Ａｎｔｉｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎｍａｔｅｒｉａｌ，ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎｆｉｌｍａｎｄｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎｍｅｔｈｏｄｓｔｈｅｒｅｆｏｒ［Ｐ］．ＵＳＡＰａｔｅｎｔ：—６５０５９４２，２００３０１－１４．—［５２］ＬＥＥＳＥ，ＣＨＯＩＳＷ，ＹＩＪ．Ｄｏｕｂｌｅ－ｌａｙｅｒａｎｔｉｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎｃｏａｔｉｎｇｕｓｉｎｇＭｇＦ２ａｎｄＣｅ０２ｆｉｌｍｓｏｎａｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅｓｉｌｉｃｏｎｓｕｂｓｔｒａｔｅ［Ｊ］．——ＴｈｉｎＳｏｌｉｄＦｉｌｍｓ。２０００，３７６（１２）：２０８２１３．Ｅ５３］ＩＳＨＩＨＡＲＡＹ，ＨＩＲＡＩＴ，ＳＡＫＵＲＡＩＣ，ｅｔａ１．Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓｏｆｔｈｅｐａｒｔｉｃｌｅｏｒｄｅｒｉｎｇｔｅｃｈｎｉｑｕｅｆｏｒｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅａｎｔｉｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎｆｉｌｍｓ—口］．ＴｈｉｎＳｏｌｉｄＦｉｌｍｓ，２００２，４１１（１）：５０５５．——［５４］ＣＨＥＮＪＹ，ＳＵＮＫＷ．Ｎａｎｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅｄｔｈｉｎｆｉｌｍｓｆｏｒａｎｔｉｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ［Ｊ］．ＴｈｉｎＳｏｌｉｄＦｉｌｍｓ，２０１１，ａｃｃｅｐｔｅｄ．——［５５３ＫＩＭＪＹ，ＨＡＮＹＫ，ＫＩＭＥＲ，ｅｔａ１．Ｔｗｏｌａｙｅｒｈｙｂｒｉｄａｎｔｉｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎｆｉｌｍｐｒｅｐａｒｅｄｏｎｔｈｅｐｌａｓｔｉｃｓｕｂｓｔｒａｔｅｓ［Ｊ］．Ｃｕｒｒｅｎｔ—ＡｐｐｌｉｅｄＰｈｙｓｉｃｓ，２００２，２（２）：１２３１２７．基金项目：国家８６３计划资助项目（２００８ＡＡ０３Ａ３２６）———收稿日期：２０１０１２０７；修订日期：２０１１－０５０９作者简介：张晓雯（１９８２－－），女，博士研究生，工程师，从事专业：透明材—料学，联系地址：北京市８１信箱９分箱（１０００９５），Ｅｍａｉｌ：ｗｅｎｄｙ５１１＠ｂｉｔ．ｅｄｕ．ｃｎ通讯作者：颜悦（１９６６－），男，博士，研究员，从事专业：座舱透明件的开—发与研究，联系地址：北京市８１信箱９分箱（１０００９５），Ｅｍａｉｌ：ｙｕｅ．ｙａｎ＠ｂｉａｍ．ａｃ．ｃａ