碘量法测定钴铬烤瓷合金中的钴.pdf

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第lo卷第3期2016年9月材料研究与应用MATERIALSRESEARCHANDAPPLICATl0NV01.10,No.3Sept.2016文章编号:1——6739981(2016)03~022904碘量法测定钴铬烤瓷合金中的钻麦丽碧,许洁瑜,陈小兰,陈晓东广东省工业分析检测中心,广东广州510651摘”要:采用碘量法测定钴铬烤瓷合金中的钴,测定结果的相对标准偏差(RSD)为0.11%(=11).表明该方法具有良好的精密度,准确度高,能够满足钴铬烤瓷合金中钴含量的测定要求.关键词:钴铬烤瓷合金;钴;聚四氟乙烯;高压消解罐;碘量法中图分类号:O655.23文献标识码:A钴铬烤瓷合金是牙科最常用的一种材料,主要用于镶牙、补牙、种牙,以及制作颅面部骨折固定的夹板和螺钉、正牙弓丝和托槽、牙科手术和治疗器械等n].该合金凭借其优异的生物相容性及良好的力学性能,而被用于制作烤瓷熔附金属修复体——(porcelainfusedtometalrestoration,PFM).由于烤瓷镍铬合金具有一定程度的致敏性,而贵金属烤瓷修复体及全瓷修复体价格昂贵,因此钴铬合金在我国临床上的应用将越来越广泛[2J.钴铬烤瓷合金主要成分为钴、铬、钼和钨,其中钴的质量分数为55%~68%,铬的质量分数为25%~32%,合金中常含有少量的铜、镍、硅、镓、铝、钽、铑、锰、硼及碳等元素[1].由于钴铬烤瓷合金中钴含量较高、杂质较多,本文采用碘量法测定钴铬烤瓷合金中的钴.1实验部分1.1主要试剂试验的试样为钴铬烤瓷合金,其主要成分含量分别为训(Co)=61%,叫(Cr)一24%,叫(Mo)=∞5%,叫(W)一7%,训(Ga)一3%,(Si)一1%.试验所用试剂为盐酸、硝酸、高氯酸、氢氟酸、氨水,所用试剂均为分析纯,水为二级水.—收稿日期:20160卜11作者简介:麦丽碧(1964一),女,广东佛山人,高级工程师,本科柠檬酸铵一焦磷酸钠混合溶液:饱和柠檬酸铵溶液和饱和焦磷酸钠溶液按照等体积混合.钴标准溶液:首先称取1.OOOOg的金属钴(叫≥(Co)99.95%),加入到10~20mL的HNO。(1+1)溶液中,加热溶解并蒸发至近干后加入少量的水进行溶解,然后移入500mL的容量瓶中用水定容,此溶液中Co含量为2g/L.再次称取0.5000g的金≥属钴(叫(Co)99.95%),加入到10~20mL的HNO。(1+1)溶液中,加热溶解并蒸发至近干后加入少量水进行溶解,然后移入500mL的容量瓶中用水定容,此溶液中Co含量为1g/L.铬标准溶液:称取预先在150oC下烘1h并置于干燥器中冷却至室温的基准试剂重铬酸钾1.4135g于烧杯中,用水溶解后移人500mL的容量瓶中,用水稀释至刻度,混匀,此溶液中Cr含量为1g/L.≈碘溶液(f(1/212)0.05tooL/L):称取12.7g的碘移至容器瓶中,再加入50g的碘化钾,然后加水溶解并稀释至2L.≈亚砷酸钠标准滴定溶液(c(Na。AsO。)0.05rnoL/L):称取5.1g的三氧化二砷溶于浓度为100g/L的20mL的氢氧化钠溶液(必要时稍加热)中,以盐酸(1+1)中和,然后加入15g的碳酸氢钠,用水稀释至2L.万方数据材料研究与应用1.2试验方法称取0.1000g的试样于聚四氟乙烯高压消解罐中,加入10mL的盐酸、3mL的硝酸和5mL的℃氢氟酸,于预热至180的烘箱中加热溶解4h后取出,待试液冷却后移入100mL聚四氟乙烯容量瓶中.准确移取50mL试液于250ml。烧杯中,加入5mL的高氯酸,蒸发至冒白烟2~3min后取下冷却,用少量水吹洗杯壁,再加少量水,加热至沸,使可溶盐类溶解.待溶液冷却后,用氨水中和至碱性,再用HCI(1+1)中和至微酸性.冷却,加入25g的硝酸铵,待溶解后,加入10mI。的柠檬酸铵一焦磷酸钠混合溶液,准确加入25mL碘溶液和10mL的氨水,搅拌5min,静置10~20min,以10g/L的淀粉溶液作指示剂,用亚砷酸钠标准滴定溶液滴定至蓝色消失,即为终点.与试样分析同时进行空白试验[3].1。3数据计算亚砷酸钠标准滴定溶液的标定:准确吸取3份浓度为2g/L的钴标准溶液20mL,分别放人3个体积为250mL的烧杯中,准确加入25mL的碘溶液及10mL的氨水,搅拌5min,静置10~20min,以10g/L的淀粉溶液作指示剂,用亚砷酸钠标准滴定溶液滴定至蓝色消失,即为终点,所消耗的亚砷酸钠标准滴定溶液的体积记为V.与试样分析同时进行空白试验,所消耗的亚砷酸钠标准滴定溶液的体积记为V。.厂一万岛.(1)式(1)中:厂为与1.00mI。亚砷酸钠标准滴定溶液相当的以克表示的钴的质量,g/L;V为滴定钴标准溶液时所消耗亚砷酸钠标准滴定溶液的体积,mL;V。为滴定空白溶液时所消耗亚砷酸钠标准滴定溶液的体积,mL.按下式计算钴的质量分数叫(Co)/%:叫(CO)一!兰!二兰!!』×100×2.”,(2)式(2)中:V。为滴定试样时所消耗亚砷酸钠标准滴定溶液的体积,mL;V。为滴定空白溶液时消耗亚砷酸钠标准滴定溶液的体积,mL;m为试料的质量,g;试液分取比例为2.2结果与讨论2.1溶解试验钴铬烤瓷合金强度高、硬度大、杂质较多,具有良好的耐腐蚀性,一般需要在高温高压条件下于王水和氢氟酸介质中进行溶解.取6份0.1000g样品分别置于聚四氟乙烯烧杯中,其中3份加入与1.2试验方法中等量的盐酸、硝酸和氢氟酸,在电热板上加热溶解;另外3份加入与1.2试验方法中等量的盐酸、硝酸、氢氟酸,在电热板上加热溶解,待样品大概溶解一半时加入10mI。的硫酸和10mI。的磷酸,样品溶解过程中需不断补加酸,直至样品完全溶解,取下冷却后移入100mI。的聚四氟乙烯容量瓶中.另称取3份样品于聚四氟乙烯高压消解罐中,加入10mL的盐酸,3mL的硝酸和5mL的氢氟酸,于℃预热至180的烘箱中加热溶解4h,取下冷却后移入100mL的聚四氟乙烯容量瓶中,测试过程与样品分析过程一致.不同的分解方法对测定结果的影响列于表1.表1溶解试验结果Table1Dissolvingexperient万方数据第10卷第3期麦丽碧,等:碘量法测定钴铬烤瓷合金中的钴由表1可知:在电热板加热条件下,用盐酸+硝酸+氢氟酸溶液不能完全溶解样品,此溶解方法不可行;在电热板加热条件下,用盐酸+硝酸+氢氟酸+硫磷混酸溶液溶解样品,但溶解时间很长,且需要不断补加酸,测定结果偏低,原因是溶解时间过长,溶液易跳溅损失,或者样品并未溶解完全,有细小未溶物而未能观察出;将样品置于聚四氟乙烯高压消解罐中高温高压溶解,样品可完全溶解且溶液清亮,测定结果与样品给定值吻合.2.2铬及共存元素的干扰本试验测定的钴铬烤瓷合金样品中含钴(质量分数)约61%,铬约26%,还含有钨、钼、硅、铁、钉、镓等其他元素,因其它元素含量较低,不影响测定结果.柠檬酸铵一焦磷酸钠混合溶液的加入,可消除100mg的铁、铝的影响,因此,主要考虑铬对钴测定的影响.分别移取浓度为2g/L的钴标准溶液15mL于3个250mL的烧杯中,再分别加入10,15和20mL的铬标准溶液,按1.2试验方法进行钴的测定,结果列于表2.由表2可知,采用碘量法测定钴铬烤瓷合金中钴,铬对测定结果没影响.表2干扰试验测定结果Table2Testresultsoftheinterferenceexperiment铬的加入量/mg钴含量/mg10.OO15.OO20.OO30.1030.0529.962.3精密度试验取钴铬烤瓷合金试样,按试验方法独立地进行11次测定,试验结果列于表3.由表3可知,所测钴含量的相对标准偏差(RSD)为0.11%.表明本方法的精密度高,重视性、稳定性好.表3精密度试验测定结果Table3Testresultsoftheprecision2.4回收试验为了考察本方法的准确度,在试样中分别加入浓度为1g/L的钴标准溶液5,10和15mL,进行加标回收试验,测试过程与样品分析过程一致,结果列于表4.由表4可知,在拟定的试验条件下,钴回收率在98.80%~103.20%之间,符合常量分析要求.表4加标回收试验结果Table4Resultsoftherecoverytest3结论采用碘量法测定钴铬烤瓷合金中的钴,所测钴含量的相对标准偏差(RSD)为0.11%(行一11),该方法精密度高、准确度高及稳定性好,能够满足钴铬烤瓷合金中钴含量测定的要求.参考文献:[1]汪大林,江中明.牙科合金材料应用研究现状EJ].特种—铸造及有色合金,2010(增2):7678.[2]战德松,王强,李柘.金属烤瓷合金的研究进展EJ].中国实用口腔医学杂志,2008,2(1):115-119.[3]北京矿冶研究总院分析室.矿石及有色金属分析手册fM].北京:冶金工业出版社,1990.万方数据232材料研究与应用2016————————————————————————————————————————————————————————————一一。DeterminationofcobaltincobaltchromiumceramicalloybyiodometryMAILibi,XUJieyu,CHENXiao[an,CHENXiaodongGuangdongIndustrialAnalysisandTesting“”Center,Guangzho510651。ChinAbstract:Iodometryisusedtodeterminecobaltincobaltchromiumceramicalloy.Therelativestandarddeviationis0.11%(,?一11).Thegoodprecisionofthismethodcanmeettherequirementsofnickel一ironceramicalloyinthedeterminationoftotalcobalt.Keywords:cobaltchromiumceramica¨oy;cobalt;teflon;autoclave;iodometry≤≤‘鲻篮《蓝篮蝼妊《《簦懿盛簌娃《蛙然鲻型《搿彰簦盛搿盛篮《《《蓝逝篮i鳌耋篮连逝迓;鼗蠹醛鲨迸泣迄耋出錾《(上接第218页)StudyofinductivelycoupledplasmaetchingofGaNRENYuan,LIUXiaoyan,LIUJiucheng,LIUNingyang,CHENZhitaoGuangdongResearchInstituteofsemiconductorIndustrialTechnology,Guangzhou”510650,ChioAbstract:InordertofurtherregulatethekeyfeaturesizeofGaNmaterialetching,redueetheGaNmaterialetchingdamage,inductivelycoupledplasma(ICP)etchingofGaNissystemicallyinvestigatedbychangingCle/BCl3/N2gasmixingratio,operatingpressureICPpowerandRFpower.Theetchingrate,etchselectivityofGaNoverPhotoresistand—DCbiasisstudiedsystematicallyandthemechanismofchangesisanalyzed.Theoptimizedetchingprocess,usedformesaformationduringtheLEDfabrication。ispresented.Adepthof1.837micronsofGaNwasetchedusingphotoresistasthemask.Thesurfaceofthephotoresistissmooth.Etchingstepissharpwithananglelessthan75O.Keywords:ICPetching;GaN;etching—rate;selectivity;DCBias万方数据
awang118
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